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含氮体系CVD低压金刚石薄膜淀积条件 被引量:1

Deposition Conditions for CVD Diamond Films under Low Pressure with Nitrogen Addition
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摘要 根据非平衡热力学耦合模型理论首次计算得到了碳氢氮体系的金刚石生长的非平衡定态相图与近几年在国际上发表的该体系实验结果相符合,可以为今后的实验研究提供定量化的理论依据.根据理论相图讨论了系统压力和体系中氮的添加对金刚石薄膜淀积条件的影响. Non-equilibrium stationary phase diagrams for diamond growth with nitrogen addition intothe reaction system were calculated and coordinate well with published experimental results.Therefore they can direct the experimental research on the subject. The effects of nitrogen addition on the deposition of diamond films were discussed by using the phase diagrams. The nitrogenaddition can accelerate the deposition rate of diamond films in two aspects: enhance the CH3concentration at the growth surface and accelerate the abstraction of H atoms covered the growthsurface sites.
出处 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1999年第1期114-118,共5页 Journal of Inorganic Materials
基金 国家自然科学基金!59772029 863高科技基金!!863-715-010-0050
关键词 金刚石 相图 化学气相淀积 薄膜 含氮体系 diamond, phase diagram, chemical vapor deposition, nitrogen, film
  • 相关文献

参考文献7

二级参考文献8

  • 1王季陶,Proc of 13th International Conf on CVD,1996年
  • 2王季陶,科学通报,1995年,40卷,1056页
  • 3王季陶,Diamond Materials.4,1995年,13页
  • 4王季陶,Proc of 13th International Conf on CVD,1996年
  • 5王季陶,科学通报,1995年,40卷,9期,1056页
  • 6王季陶,Diamond Materials IV,1995年,13页
  • 7王季陶,J Electrochem Soc,1994年,141卷,1期,278页
  • 8王季陶,Surface Coating Technology,1990年,43/44卷,1期,1页

共引文献11

同被引文献6

引证文献1

二级引证文献2

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