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脉冲软X射线源及光刻的初步研究 被引量:3

PUlSED SOFT X-RAY SOURCE AND PRELIMINARY STUDY OF LITHOGRAPHY
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摘要 喷气式Z箍缩等离子体装置产生的软X射线,波长大约在0.2~0.6um之间,一次放电产生的软X射线能量约50J。本文利用此软X射线源,用金属丝网作为掩模,对CSM光刻胶进行了曝光的初步实验研究,得到了较为清晰的曝光图形。 The wavelength of soft x-ray produced from the gas-puff Z-pinch plasma isabout 0. 2 ̄0. 6nm and the energy per discharge is about 50 J. In this paper, aclear x-ray lithographic picture corresponding to a metal mesh was obtained employing this soft x-ray and resist CSM.
出处 《微细加工技术》 1996年第2期35-38,共4页 Microfabrication Technology
基金 中国博士后科学研究基金
关键词 软X射线源 光刻 微细加工 半导体器件 Z-pinch plasma soft x-ray source x-ray lithography
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