期刊文献⁺

任意字段

题名或关键词

题名

关键词

文摘

作者

第一作者

机构

刊名

分类号

参考文献

作者简介

基金资助

栏目信息

日本金刚石薄膜研究发展动态被引量：1

下载PDF

导出

摘要一、前言早在1956年低温低压合成金刚石就由苏联科学院物理化学研究所的Spitsyn和Derjaguin开始研究。1958年美国联合碳化物公司的W.G.Eversole也通过实验从气相合成出金刚石。但直到八十年代在日本国立无机材质研究所才取得突破性的进展。

作者郑昌琼冉均国

机构地区成都科技大学

出处《材料科学与工程》 CAS CSCD 1992年第2期45-47,共3页 Materials Science and Engineering

关键词日本金刚石薄膜薄膜

分类号 TN304.18 [电子电信—物理电子学]

引文网络
相关文献

参考文献1

1Seiichiro Matsumoto,Yoichiro Sato,Masayuki Tsutsumi,Nobuo Setaka. Growth of diamond particles from methane-hydrogen gas[J] 1982,Journal of Materials Science(11):3106～3112

同被引文献5

1张保军,黄穗阳,苍风波,常静宜.低压气相生长金刚石薄膜[J].材料科学进展,1990,4(3):269-272. 被引量：4
2黄兴家.金刚石薄膜的沉积技术及其应用[J].材料科学与工程,1990,8(3):10-15. 被引量：1
3张贵锋,郑修麟.衬底表面预处理对金刚石薄膜形核及长大的影响[J]材料科学进展,1993(02).
4吴波.用爆炸法制造金刚石[J]材料科学与工程,1991(02).
5陈岩,黄荣芳,闻立时,师昌绪.氮化硅及Sialon陶瓷基材上金刚石膜的沉积[J].材料科学进展,1992,6(1):56-59. 被引量：1

引证文献1

1朱红旭,郎志敏.人工合成金刚石研究发展新动向[J].河北轻化工学院学报,1996,17(2):58-62.

1晴天.苏联科学院工业激光器研究中心的工业激光器[J].国外激光,1991(8):8-12.
2周德锁,管桦.第三代移动通信系统的无线传输技术[J].空军工程大学学报（自然科学版）,2002,3(2):38-41. 被引量：8
3邹广田,于三,金曾孙,吕宪义.半导体金刚石薄膜的制备及性质研究[J].功能材料,1991,22(2):70-73. 被引量：2
4吴大维.气相合成金刚石薄膜[J].计算机杂志,1989,17(4):26-31.
5松一.气相合成金刚石在电子器件上的应用[J].等离子体应用技术快报,1999(3):12-14.
6林彰达,孙碧武.亚稳态CVD合成金刚石的机理[J].薄膜科学与技术,1991,4(3):69-76. 被引量：3
7铃木準一,魏津,川原田洋,平木昭夫,王景义.有磁场的等离子体CVD法合成金刚石[J].微细加工技术,1990(2):70-75.
8耿琦,艾勇.高速空间光通信系统的研究动态[J].空间电子技术,2005,2(4):1-5. 被引量：2
9叶志镇,Z.H.Zhou,R.Reif.新颖的超高真空CVD外延设备与低温低压硅外延研究[J].真空科学与技术,1994,14(5):330-335.
10陈蕾,杨万录,魏福山.基于PKI的认证密钥交换协议的研究进展[J].信息工程大学学报,2015,16(6):650-656.

材料科学与工程

1992年第2期

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...

;

使用帮助返回顶部