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C_(60)薄膜的热处理性能研究 被引量:1

Thermal Treatment Characteristic of C_(60) Film
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摘要 通过对Si(100)衬底上C60薄膜在不同温度处理后的AES谱线研究发现,C60分子于973K时开始分解,生成石墨类碳碎片,1073K时C原子已与Si原子键合形成SiC,1123K时C60分子全部分解,这一研究结果对解释C60分子促进金刚石成核将起到重要作用. A series of AE spectra for 'as-deposited' C60 films on Si(100) substrate annealed at different temperatures were studied. C60 molecules begin to decompose at 973K and result in a graphite-like carbon fragmentation. When C60 film is heated to 1073K, silicon and carbon will bond to form silicon carbide.At 1123K all C60 molecules will decompose. The results may take place an important role for the explanation of C60 molecule promoting diamond nucleation.
作者 刘波 王豪
出处 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第5期957-960,共4页 Journal of Inorganic Materials
基金 国家自然科学基金!(59682005)
关键词 碳60薄膜 热处理 性能 C60 film AES graphite-like carbon fragmentation SiC
  • 相关文献

参考文献3

  • 1Chow Lee,Appl Phys Lett,1995年,66卷,4期,430页
  • 2Feng Z,J Mater Res,1995年,10卷,1期,165页
  • 3Chen Dong,Sarid Dror Phys Rev.B,1994年,49卷,11期,7612页

同被引文献3

引证文献1

二级引证文献1

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