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用于计量片子工作台线性和角位移的激光干涉仪被引量：1

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摘要用于硅片台计量的二维测量干涉仪已被开发出来。它能同时测量线性位移和角位移，它被设计成置于密闭的环境中，减少了工作台质量，消除了热源，并能提供高分辨率和偏转速率。

出处《电子工业专用设备》 1997年第4期54-56,共3页 Equipment for Electronic Products Manufacturing

关键词激光干涉仪干涉仪工作站硅片

分类号 TN304.12 [电子电信—物理电子学] TH744.3 [机械工程—光学工程]

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电子工业专用设备

1997年第4期

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