摘要
采用短波长光源，制作小于０．５μｍ线宽的ＶＬＳＩ芯片，对准精度必须是０．１μｍ甚至更小。该报告介绍掩模对准台在机械方面的改进，诸如Ｘ、Ｙ向位移精度的提高，Ｚ向精度的实现和俯仰运动的控制。典型样机和高精密对准台已经生产出来。为了提高Ｘ、Ｙ向位移精度，工作台采用阻尼驱动机构，且采用一种线性模拟／数字游标信号的测量方法。实验结果从Ｘ－Ｙ工作台获得小于０．０２５μｍ的位移分辨率，无间隙，无滑行，且无滞后现象。
出处
《电子工业专用设备》
1995年第2期48-51,共4页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
