光栅尺纳米测量技术研究及其发展被引量：5

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摘要介绍了光栅尺纳米测量技术的国内外研究现状,并对它们优劣进行了分析,在上述成果的基础上,得出一种以光栅栅距为测量基准,测量精度主要取决于光栅栅线的刻制精度的光栅干涉测量方法,它受光源光强和波长变化的影响很小,因此在工况条件下能够具有较好的测量精度和稳定性,符合大量程、高分辨力、动态等纳米测量技术的发展趋势,最后对此测量系统将实现样机仪器化、产业化进行了展望。

作者闫如胜马修水李桂华应仲阳

机构地区安徽大学测量与控制工程系

出处《安徽电子信息职业技术学院学报》 2008年第1期70-71,共2页 Journal of Anhui Vocational College of Electronics & Information Technology

基金安徽省教育厅自然科学基金项目资助

关键词光栅尺纳米测量光栅干涉

分类号 TN929.1 [电子电信—通信与信息系统] TB39 [一般工业技术—材料科学与工程]

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