氮化硅薄膜的制备方法及主要应用被引量：3

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摘要氮化硅薄膜具有优良的光电性能、绝缘耐压性能、机械性能以及钝化性能等，在光电子、微电子等大规模集成电路和半导体器件制造中有着广泛的应用。重点评述了制备氮化硅薄膜的几种常用方法，并介绍了氮化硅薄膜的主要性能及其应用。

作者张化福祁康成吴健

机构地区电子科技大学光电信息学院

出处《材料导报》 EI CAS CSCD 2004年第F10期298-300,297,共4页 Materials Reports

关键词氮化硅薄膜应用制备方法大规模集成电路半导体器件光电性能耐压性能机械性能常用方法主要性能光电子微电子

同被引文献18

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材料导报

2004年第F10期

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