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无污染进样法分析电子气中的痕量氧

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摘要电子工业中使用的高纯气体要求含氧量在0.2～0.05ppm。这不仅要求分析方法灵敏度高,而且还要解决外界氧的污染问题。为了避免在分析进样时环境中的氧对样品气的污染,我们在ZAV—2型微氧仪(日本产)上设计安装了无污染进样装置。同时,

作者彭永清李建平尹恩华

机构地区中国科学院半导体研究所

出处《低温与特气》 CAS 1989年第4期56-58,共3页 Low Temperature and Specialty Gases

关键词痕量氧电子气无污染进样法

分类号 TQ117 [化学工程—无机化工]

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低温与特气

1989年第4期

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