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离子镀技术及其发展(上)
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摘要
本文介绍了离子镀的原理、离子镀工艺过程中离子轰击的效应、离子镀的类型与工艺特点以及离子镀应用领域与实例，着重介绍了离子镀技术的新近发展动向。
作者
周克崧
袁镇海
罗广南
机构地区
广州有色金属研究所
出处
《表面工程》
CSCD
1996年第4期15-20,共6页
关键词
离子镀
离子轰击
发展动向
表面工程
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
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杨田林,许心光,张德恒,马瑾,马洪磊.
磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO∶Al透明导电薄膜[J]
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范志新.
应用物理学科新专业——液晶器件物理[J]
.物理,2000,29(11):688-691.
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郝晓涛,马瑾,马洪磊,田茂华,曹宝成,叶丽娜,程传福,滕树云.
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.中国科学（A辑）,2001,31(9):835-840.
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.功能材料,2002,33(4):354-356.
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杨田林,高绪团,韩盛浩.
偏压磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO:Al透明导电膜[J]
.曲阜师范大学学报（自然科学版）,2002,28(4):59-63.
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杨田林,韩圣浩,高绪团,杨光德.
有机衬底SnO_2掺Sb透明导电膜的制备[J]
.太阳能学报,2003,24(2):273-277.
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李世涛,乔学亮,陈建国.
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.激光与光电子学进展,2003,40(7):53-59.
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何维凤,赵玉涛,李素敏,李长生.
柔性透明导电薄膜的制备及其发展前景[J]
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张凤,陶杰,董祥.
柔性透明导电薄膜及其制备技术[J]
.材料导报,2007,21(3):119-122.
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鲁云华,康文娟,胡知之,王永飞,房庆旭.
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.化工新型材料,2010,38(9):27-29.
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吴琴.
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.硅谷,2012,5(24):143-144.
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.电子器件,2016,39(5):1031-1033.
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马欣新,夏立芳.
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.科学通报,1993,38(8):763-765.
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金达义.
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.上海金属,1993,15(6):54-59.
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韩廷华,杜庆竹.
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.空间电子技术,1993(3):45-50.
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Kimur.,T,冯世墙.
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.国外电气自动化,1990(3):48-52.
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遇衍澄.
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.薄膜科学与技术,1995,8(3):240-249.
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