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氧化铟半导体薄膜厚度控制的支持向量回归模型 被引量:1

Support vector regression modei for controlling the thickness of semiconductor In_2O_3 film
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摘要 将支持向量回归(SVR)方法用于氧化铟薄膜的厚度控制。取已有的实验数据作为模式识别训练样本,以样品中氧化铟的重量百分含量、原料的粘度、添加剂的重量百分含量以及两个处理工艺条件提拉速度和提拉次数作为特征变量,得到了用于计算薄膜厚度的回归方程式。用“留一法”检验所得数学模型的预报能力,并将结果与传统的模式识别方法(Fisher法和KNN)进行了比较,结果表明:SVR的预报准确率比Fisher和KNN方法高。因此,SVR方法有望成为一种新的实验设计的手段。 The support vector regression (SVR) modei was used to control the thickness of In2O3 films, using the data from experimental results as training set, and some parameters such as the mass percentage of In2O3 and PVA, the viscosity of coating liquids, the drawing rate and drawing number as features. The regression equation for the computation of the thickness of films was obtained. The cross-validation experiment (leaving one method) was done in order to test the predictive ability of the SVR. The result of the experiment comparing the performance of the SVR with two other methods, Fisher discriminating vector method and KNN method indicated that the predictive ability of the SVR exceeded that of Fisher and KNN method.
出处 《计算机与应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2002年第6期733-736,共4页 Computers and Applied Chemistry
基金 国家自然科学基金委和美国福特公司联合资助(9716214)
关键词 氧化铟 半导体薄膜 厚度控制 支持向量回归 数据信息采掘 支持向量机 数学模型 data mining support vector machine support vector regression In2O3 films control of the thickness of films
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