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射频自偏压在等离子体工艺中的作用 被引量:5

Effect of RF Self-bias on Plasma Process
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摘要 木文讨论了射频自生负偏压的作用,认为自偏压代表了等离子体状态而且也代表了离子对各个表面的轰击能量。 In this paper,the effect of RF negativo self-bias is discussed. It is demonstrated that RF self bias presents the plasma condition and ion energy bombing onto surfaces.
出处 《真空》 CAS 北大核心 1991年第3期15-17,共3页 Vacuum
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