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溅射靶材的应用及发展趋势 被引量:23

Trend in development and applications of sputtering target materials
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摘要 由于集成电路、光碟及平面显示器等产业规模越来越大 ,这些高技术产业对各种超高纯金属及合金溅射靶材的需求量愈来愈多。本文对各种溅射靶的应用情况、市场及发展趋势作简要分析 。 With the development of VLSI, CD and flat panel display (FPD), the demands of sputtering target materials with super high purity are greatly increased in IT. In this paper, the trend of the market and application about these materials are discussed. It will be a reference for the producers of sputtering target materials.
出处 《真空》 CAS 北大核心 2002年第1期1-4,共4页 Vacuum
关键词 溅射靶材 集成电路 平面显示器 光学镀膜 薄膜材料 制备 sputtering target materials IC flat panel display optical coating
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参考文献2

二级参考文献1

  • 1田民波 刘德令 等.薄膜科学与技术手册[M].北京:机械工业出版社,1992..

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引证文献23

二级引证文献122

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