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大规模集成电路用溅射靶

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摘要 1、半导体LSI(大规模集成电路)元件是由薄膜构成的,薄膜技术在其中起着重要的作用。薄膜材料的来源是靶。随着LSI的高功能化和需求量扩大,迅速开发了多种多样的靶材料。

作者韩庆康

出处《上海钢研》 2001年第1期42-43,共2页 Journal of Shanghai Iron and Steel Research

关键词大规模集成电路溅射靶 LSI

分类号 TN470.592 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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1周庆升.高纯度溅射靶[J].中外技术情报,1996(9):25-27.
2李义陵,冯金生,杨延生,卜家威,王志浩,程莺.晶体管用溅射靶材料的研究[J].上海金属（有色分册）,1992,13(4):30-36.
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7杨邦朝,胡永达,崔红玲.溅射靶材的应用及发展趋势[J].真空,2002,39(1):1-4. 被引量：23
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上海钢研

2001年第1期

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