溅射靶材的制备与应用被引量：44

Manufacture and application of sputtering target mterials

导出

摘要在信息产业不少基础产品的制造过程中 ,需使用多种溅射靶材 ,本文简介溅射靶材的制造及主要应用情况。 Many kinds of sputtering target materials are necessary for manufacturing in IT. Process of making sputtering target materials and the main applied cases are briefly discussed.

作者杨邦朝崔红玲

机构地区电子科技大学

出处《真空》 CAS 北大核心 2001年第3期11-15,共5页 Vacuum

关键词溅射靶材薄膜制备应用信息存储工业半导体器件电子器件 LCD sputtering target material film

分类号 TB43 [一般工业技术] TN304.05 [电子电信—物理电子学]

引文网络
相关文献

参考文献1

1田民波刘德令等.薄膜科学与技术手册[M].北京:机械工业出版社,1992..

共引文献3

1杨邦朝,胡永达,崔红玲.溅射靶材的应用及发展趋势[J].真空,2002,39(1):1-4. 被引量：23
2叶光,林志贤,郭太良.射频磁控溅射二氧化硅薄膜的工艺探讨[J].龙岩师专学报,2002,20(6):44-45. 被引量：7
3刘志坚,陈远星,黄伟嘉,黄华俭.溅射靶材的应用及制备初探[J].南方金属,2003(6):23-24. 被引量：23

同被引文献344

1尚再艳,江轩,李勇军,杨永刚.集成电路制造用溅射靶材[J].稀有金属,2005,29(4):475-477. 被引量：50
2余东海,王成勇,张凤林.刀具涂层材料研究进展[J].工具技术,2007,41(6):25-32. 被引量：39
3陈静,杨海欧,杨健,黄卫东.高温合金与钛合金的激光快速成形工艺研究[J].航空材料学报,2003,23(z1):100-103. 被引量：14
4谭政,夏光明,熊翔,王跃明,解路,严淑群,闵小兵.ZrC对等离子喷涂成形钼制品的影响[J].金属材料与冶金工程,2012,40(3):3-7. 被引量：2
5CHE XingLai,LI JiaHao,DAI Ye,LIU BaiXin.Structural stability and magnetism of metastable Ni-Pt intermetallic compounds studied by ab initio calculation[J].Science China(Technological Sciences),2009,52(9):2681-2687. 被引量：2
6吴胜文,葛启录,褚征军.高性能电子溅射靶的制备[J].粉末冶金技术,2004,22(2):87-90. 被引量：1
7王祝堂.话说高纯铝(二)[J].金属世界,2004(4):36-37. 被引量：15
8文宏福,吴立华.光信息存储与溅射靶材[J].光盘技术,2003(6):28-30. 被引量：2
9王祝堂.话说高纯铝(三)[J].金属世界,2004(5):33-37. 被引量：11
10齐海波,林峰,颜永年,闫占功,张益坤,刘景锋,郭盛斌.电子束在快速制造领域的应用[J].新技术新工艺,2004(11):54-56. 被引量：12

引证文献44

1尚再艳,江轩,李勇军,杨永刚.集成电路制造用溅射靶材[J].稀有金属,2005,29(4):475-477. 被引量：50
2文宏福,吴立华.光信息存储与溅射靶材[J].光盘技术,2003(6):28-30. 被引量：2
3赵玉涛,徐小玉,戴起勋,傅明喜,李长生.镍钴锌铁氧体/二氧化硅复合靶材的制备[J].江苏大学学报（自然科学版）,2005,26(4):354-356. 被引量：1
4扈百直,李风光,钟景明.硫化锌掺杂二氧化硅靶材致密化研究[J].稀有金属快报,2005,24(9):23-26.
5金永中,刘东亮,陈建.溅射靶材的制备及应用研究[J].四川理工学院学报（自然科学版）,2005,18(3):22-24. 被引量：28
6张越举,李晓杰,孙贵磊,陈涛,王小红.制备ITO靶材的探索[J].真空,2005,42(6):27-32. 被引量：3
7陈祝,张树人,杜善义,杨成韬,孙明霞,郑泽渔,李波,董加和.ZnO掺杂Li^+陶瓷靶及溅射膜制备工艺研究[J].功能材料,2006,37(4):583-586. 被引量：5
8陈建军,杨庆山,贺丰收.溅射靶材的种类、应用、制备及发展趋势[J].湖南有色金属,2006,22(4):38-41. 被引量：27
9陈祝,张树人,杜善义,杨成韬,郑泽渔,李波,孙明霞.ZnO陶瓷靶制备及其薄膜RF溅射工艺研究[J].无机材料学报,2006,21(4):1011-1017. 被引量：3
10王雄,吴学忠.PVD溅射技术在MEMS器件制作中的应用[J].传感技术学报,2006,19(05A):1434-1436. 被引量：1

二级引证文献254

1韩彦鹏,陈志永,李震,贺昕,肖柱.高纯钴板冷轧前后的显微组织及织构特征[J].兵器材料科学与工程,2020,43(2):52-57. 被引量：2
2韩思聪,徐国进,罗俊锋,李勇军,何金江,郭继华.集成电路用高纯镍铂靶材的制备及发展趋势[J].功能材料与器件学报,2022(6):499-503. 被引量：4
3扈百直,李风光,钟景明.硫化锌掺杂二氧化硅靶材致密化研究[J].稀有金属快报,2005,24(9):23-26.
4金永中,刘东亮,陈建.溅射靶材的制备及应用研究[J].四川理工学院学报（自然科学版）,2005,18(3):22-24. 被引量：28
5李海凤.ZnO的用途及其薄膜的制备方法[J].天津职业大学学报,2006,15(3):39-41. 被引量：1
6陈建军,杨庆山,贺丰收.溅射靶材的种类、应用、制备及发展趋势[J].湖南有色金属,2006,22(4):38-41. 被引量：27
7徐小玉,黄之德,赵玉涛.磁性陶瓷靶材的制备及其应用研究[J].真空,2007,44(3):72-74. 被引量：3
8刘惠莲,杨景海,刘文彦,杨丽丽,张永军.CaSiO_3:Eu^(3+)Bi^(3+)的制备及发光性能[J].东北师大学报（自然科学版）,2007,39(3):75-78. 被引量：7
9何金江,郭力山,王欣平,孙秀霞.高纯Al合金与6061Al合金的电子束焊接[J].热加工工艺,2007,36(19):33-35. 被引量：5
10禹泽海,孙鹏,汪春平,杨艳.高纯铜溅射靶材的发展及现状[J].山西冶金,2007,30(5):4-6. 被引量：12

1刘源源,尹树华,向玉,孙岩清.光子晶体光纤的制备与应用[J].网络电信,2009,11(3):60-62.
2焦斌斌,陈大鹏,叶甜春,欧毅,董立军,杨清华.悬臂梁微尖端器件的制备与应用研究进展[J].电子工业专用设备,2005,34(1):15-19. 被引量：1
3李春甫.小议湿度对网印的影响[J].丝网印刷,2008(10):17-19. 被引量：1
4杨丽娜.你未必了解的特种PCB板[J].工业设计,2009(8):13-13.
5蒋安邦,闫共芹,赵冠林.氧化铟分级结构的水热法制备与应用研究进展[J].化工新型材料,2015,43(11):215-217.
6何万迅,施文康,何朔,范晓波,叶爱伦.长周期光纤光栅:原理、制备与应用[J].光学技术,2001,27(5):396-400. 被引量：15
7超快光纤激光器[J].光机电信息,2008,0(4):55-56.
8李会玲,王京霞,宋延林.光子晶体的制备与应用研究[J].自然杂志,2009,31(3):153-154. 被引量：8
9尹贤文.半绝缘多晶硅薄膜的制备与应用[J].微电子学,1995,25(1):45-52.
10杨家乐,沈鸿烈,邢正伟.多孔硅复合材料的制备与应用研究进展[J].微纳电子技术,2016,53(12):787-796.

真空

2001年第3期

浏览历史

内容加载中请稍等...

溅射靶材的制备与应用被引量：44

参考文献1

共引文献3

同被引文献344

引证文献44

二级引证文献254

相关作者

相关机构

相关主题

浏览历史

溅射靶材的制备与应用 被引量：44

参考文献1

共引文献3

同被引文献344

引证文献44

二级引证文献254

相关作者

相关机构

相关主题

浏览历史

溅射靶材的制备与应用被引量：44