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双E型硅加速度传感器的研制 被引量:4

Development of Dual-E form Accelerometer
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摘要 本文在简要介绍了 ,利用硅的各向异性腐蚀工艺研制的 ,双 E非整体弹性膜式硅芯片结构的同时 ,又较详细地报告了 ,用此芯片封装成的硅加速度敏感元件及硅加速度传感器结构 。 The silicon chip of dual E form non integral structure has been introduced, which is prepared by the technique of anisotropic wet etching of silicon and acceleration sensor element by combining this kind of silicon chip with different mass bulk and packaged based on this chip. Acceleromenter which various sensitivities and different measurement has been developed.
出处 《传感技术学报》 CAS CSCD 2001年第4期340-343,共4页 Chinese Journal of Sensors and Actuators
关键词 各向异性腐蚀 双E型硅弹性膜 硅加速度传感器 anisotropic wet etching dual E form of silicon chip Si accelerometer.
  • 相关文献

参考文献6

  • 1金磊,高世桥,李文杰.微加速度传感器硅微结构设计[J].传感器技术,2000,19(2):23-25. 被引量:10
  • 2茅盘松,方玉明,袁鲸.平面振动式微硅型加速计的研制[J].传感技术学报,1997,10(4):34-37. 被引量:5
  • 3金虎.低量程高线性线性微机械加速度计.2000年全国力敏传感器及测试、计量学术会议文集[M].北戴河,2000,7.178-183.
  • 4金虎,2000年全国力敏传感器及测试计量学术会论文集,2000年,178页
  • 5金硅,传感器技术,2000年,2卷,23页
  • 6贾伯年,传感器技术,2000年,238页

二级参考文献12

共引文献12

同被引文献7

引证文献4

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