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双E形结构硅压力传感器的研制 被引量:2

Development of dual-E form pressure transducer
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摘要 介绍利用硅的各向异性腐蚀工艺腐蚀出的一种双E形结构非整体结构弹性膜硅芯片及用此芯片封装成的压力敏感元件。借助于这种硅芯片与不同厚度的封孔膜结合 。 The silicon chip of dual-E form non-integral structure has been introduced, which is prepared by the technique of anisotropic wet etching of silicon and the sensor of pressure sealed and packaged based on this chip .By combining this kind of silicon chip with the seal-hole diaphragm of different thickness,the high performance pressure transducer with various sensitivities and different measurement ranges has been developed.
作者 唐世洪
出处 《传感器技术》 CSCD 北大核心 2001年第1期26-27,共2页 Journal of Transducer Technology
关键词 各向异性腐蚀 双E形结构硅弹性膜 压力传感器 anisotropic wet etching dual-E form of silicon chip pressure transducer
  • 相关文献

参考文献3

二级参考文献3

  • 1吴宪平,Sensors Actuators A,1990年,21卷,65页
  • 2吴宪平,Sensors Actuators,1989年,18卷,207页
  • 3吴宪平,Sensors Actuators,1986年,9卷,333页

共引文献6

同被引文献4

引证文献2

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