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常用的光学薄膜制备实验设备

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摘要 真空镀膜法制备的薄膜质量好,生产率高,适应的范围广,已经成为光学薄膜制备的最重要的方法了,其中使用最普遍的两种方法是热蒸发沉积和溅射沉积[1],常用制膜设备包括真空镀膜设备、分光光度计和石英晶体振荡膜厚监控仪。
作者 崔凯
出处 《科技与企业》 2014年第13期347-347,共1页 Science-Technology Enterprise
  • 相关文献

参考文献3

  • 1梁铨廷.物理光学[M]北京:机械工业出版社,1987.
  • 2洪吟霞;范世福;祝绍箕.分光光度计[M]北京:机械工业出版社,1982.
  • 3陈国平.薄膜物理与技术[M]南京:东南大学出版社,1993.

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