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电子工业用高纯金属材料 被引量:2

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作者 钟俊辉
出处 《电子材料(机电部)》 1991年第3期24-29,共6页
  • 相关文献

同被引文献10

  • 1朱瑾.我国集成电路材料的新进展[J].电子材料(机电部),1995(12):1-4. 被引量:2
  • 2范新会,李建国,傅恒志.单晶连铸技术研究评述[J].材料导报,1996,10(3):1-6. 被引量:15
  • 3范新会,蔡英文,魏朋义,李建国,傅恒志.单晶连铸技术研究[J].材料研究学报,1996,10(3):264-266. 被引量:25
  • 4范新会,魏朋义,李建国,傅恒志.单晶连铸技术原理及试验研究[J].中国有色金属学报,1996,6(4):106-109. 被引量:28
  • 5许振明.[D].西安:西北工业大学,1998.
  • 6余帆.[D].西安:西北工业大学,2002.
  • 7余帆.[D].西安:西北工业大学,2002.
  • 8许振明.铜单晶连铸技术研究[D]博士后研究工作报告[R].西安:西北工业大学,1998..
  • 9余帆.单晶铜连铸技术研究》[A].西北工业大学硕士论文[C].西安:西北工业大学出版社,2002.52-55.
  • 10许振明.铜单晶连铸技术研究[A].西北工业大学博士后研究工作报告[C].西安:西北工业大学出版社,1998.43-47.

引证文献2

二级引证文献2

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