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193-nm光刻中的光致抗蚀剂 被引量:2

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机构地区 清华大学化学系
出处 《感光科学与光化学》 CSCD 2000年第1期77-84,共8页 Photographic Science and Photochemistry
基金 国家自然科学基金!资助项目 (批准号 :59773 0 0 7)
  • 相关文献

参考文献9

  • 1林鸿溢.跨世纪新学科──纳米电子学[J].电子学报,1995,23(2):59-64. 被引量:19
  • 2Jung J C,SPIE.3333,1998年,3333期,2页
  • 3Kim S J,SPIE.3333,1998年,3333期,61页
  • 4Shida N,SPIE.3333,1998年,3333期,10页
  • 5Suwa M,SPIE.3333,1998年,3333期,3页
  • 6Duan S Q,J Photopolym Sci Technol,1998年,11卷,173页
  • 7Lu J P,J Photochem Photobiol A,1997年,110卷,313页
  • 8Hong X Y,J Vac Sci Technol B,1997年,15期,3页
  • 9Nozaki K,J Photopolym Sci Technol,1996年,9卷,509页

二级参考文献15

  • 1林鸿溢,电子了望,1993年,8卷,5页
  • 2林鸿溢,1993年
  • 3王大文,第一届全国纳米科学与技术学术会议文集,1992年
  • 4何宇亮,中国科学.A,1992年,9期,995页
  • 5林鸿溢,分形论.奇异性探索,1992年
  • 6白春礼,扫描隧道显微术及其应用,1992年
  • 7李民乾,J Vac Sci Technol B,1991年,9卷,1298页
  • 8王阳元,集成电路工艺基础,1991年
  • 9林鸿溢,半导体学报,1990年,11卷,430页
  • 10李民乾,The nuclear structure and function,1990年

共引文献18

同被引文献81

引证文献2

二级引证文献28

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