光刻技术及其极限和发展前景被引量：4

The Resolution Limit of Optical Microlithography and Its Prospects

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摘要介绍了一些新的光刻技术及光刻技术的极限和发展前景。 This paper described some new photolithographic technologies, resolution limit of photolithography and prospects

作者冯伯儒

机构地区中国科学院光电技术研究所

出处《光电工程》 CAS CSCD 1994年第2期57-64,共8页 Opto-Electronic Engineering

关键词光刻极限分辨率掩模照明控制集成电路 Photolithography, Limiting resolution, Masks, Illumination control.Overview.

同被引文献15

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光电工程

1994年第2期

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