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离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi_2薄膜的研究 被引量:2

Research on β-FeSi_2 thin films from Fe/Si multilayers deposited by ion beam sputtering
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摘要 采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响。结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表面致密均匀,其光学带隙为0.84eV,能量为1.0eV光子的吸收系数>105cm-1。 β-FeSi2 films were prepared on quartz substrates by depositing Fe/Si multilayers with ion beam sputtering method.The effect of different thickness ratio of Fe/Si multilayers on microstructure,surface morphology and optical characteristics of the films were investigated.The results indicate that β-FeSi2 films of Fe(2nm)/Si(7.4nm) multilayers have a homogeneous and dense surface with single β-FeSi2 phase after annealing.A direct gap of 0.84eV was obtained by optical absorption measurement.The optical absorption coefficient is higher than 105cm-1 at 1.0 eV.
出处 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期886-888,891,共4页 Journal of Functional Materials
基金 国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2006AA03Z219)
关键词 Β-FESI2 离子束溅射沉积 Fe/Si多层膜 石英衬底 β-FeSi2 ion beam sputtering Fe/Si multilayer quartz substrate
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