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0.8~1微米分步重复投影光刻机掩模库研制

DEVELOPMENT OF RETICLE MANAGEMENT SYSTEM IN 0. 8~1μm WAFER STEPPER
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摘要 掩模库系统可提高光刻机的稳定性和实用性,该系统包括精密的气动部分、机械构件和8098单片机为核心的电子/电气自动控制系统。 The reticle management system can enhance the stability and utility of thewafer stepper. The system includes precise pneumatic unit,mechanical parts andelectronic /electric automatic control system based on 8098 chip microprocessor.
出处 《微细加工技术》 EI 1997年第1期21-25,共5页 Microfabrication Technology
关键词 单片机 分步重复投影 光刻机 掩模库 wafer stepper reticle management 8098 chip microprocessor
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