摘要
由于TiN膜具有耐磨、搞腐蚀、导热性好的特点,所以近十几年来人们在此方面作了大量研究工作。认为TiN膜的晶体结构是影响其性能的主要因素。Mathews等人指出在相同硬度下,具有(200)取向比(111)取向的Tin膜更耐磨。而valvoda指出取向程度越低硬度越高。所以说研究膜的取向问题是十分必要的。我院薄膜研究室从87年开始,就对射频等离子体化学气相沉积TiN膜进行研究。本文就是采用该室的Tin膜,对不同沉积时间的膜进行TEM、SEM和X-射线衍射分析。样品制备:1)Tin膜的制备是13.56HZ射频等离子体化学气相沉积的TiN膜。2)
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
1990年第3期215-215,共1页
Journal of Chinese Electron Microscopy Society
