摘要
利用ＺＹＧＯ光学干涉测量仪，散射积分测量法观测了光学元件表面均方根粗糙度．详细分析了薄Ｓｉ膜对基底均方根粗糙度的影响，由此认为薄膜并不总是复制基底表面的粗糙度，结果出现了薄膜降低表面粗糙度的现象．提出了一定厚度范围的薄Ｓｉ膜的表面粗糙度存在着一个稳定值的新设想．
The surface roughness of the very thin Si films deposited on the K9 glass and thesilicon wafer using planar magnetron sputtering has ben measured by ZYGO and scatteringmethods.A saturated value of the roughness of the very thin Si films on the K9 glass isillustrated.
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第9期801-805,共5页
Chinese Journal of Lasers
