摘要
介绍了利用高倍放大的超薄多层膜的剖面图，经ＦＣ数字化图像处理系统进行数字化处理后，给出详细的定量结构参数的详细过程。并给出了对利用平面磁控溅射淀积的１０个周期数的Ｍｏ／Ｓｉ周期多层膜的实际处理结果，获得了界面上的渗透层厚度和粗糙度值，并与小角Ｘ光衍射法测得的结果进行了比较。
The structure of a Mo/Si multilayer fabricated with planiar magnetron sputteringhas been inveStigated by using SAXD and HRTEM techniques. The FC- digital imageprocessing syStem, which can easily give us the digital results of the structure parameters ofmultilayer, has been induced in analyses of HRTEM.
出处
《中国激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1994年第6期457-462,共6页
Chinese Journal of Lasers
关键词
多层膜
高分辨率
透射电镜
界面
multilayer, transmission electron microscope,FC-digital image process
