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用分割靶法制备Y_(1-x)Ho_xBa_2Cu_3O_(7-δ)超导薄膜
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摘要
本文利用直流磁控溅射技术,在(100)钇稳定的ZrO2基片上制备出c轴取向很好的Y1-xHOxBa2Cu3O7-δ(0<x≤1)超导薄膜。实验中所用的靶材由YBCO和HBCO超导材料各一半组成。随着HBCO靶材到加热器距离的变化,钬的含量发生变化,当x=0.7(原子比),零电阻温度T∞>83K。
作者
彭正顺
杨秉川
王小平
石东奇
华志强
赵忠贤
机构地区
北京有色金属研究总院
出处
《稀有金属》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第1期54-56,共3页
Chinese Journal of Rare Metals
关键词
YHBCO
超导体
薄膜
直流磁控溅射
分割靶法
分类号
TM260.51 [一般工业技术—材料科学与工程]
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