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薄膜物理乃其应用讲座第四讲立方氮化硼薄膜的研究现状及其应用前景 被引量:11

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摘要 立方氮化硼(c-BN)具有一系列优异的物理化学性质,如高的硬度,宽的带隙,高的电阻率,高的热导率,高的热稳定性、化学稳定性,在力学、光学和电子学等方面有广泛的应用前景。从立方氮化硼薄膜的性质,制备方法,目前研究工作的进展,存在的主要问题,以及应用前景等方面介绍这种新型功能材料。
机构地区 兰州大学物理系
出处 《物理》 北大核心 1995年第5期307-312,319,共7页 Physics
基金 国家自然科学基金
  • 相关文献

同被引文献68

  • 1贺琦,潘俊德,徐重,Russell F.Messier.立方氮化硼薄膜的气相沉积及过渡层对其附着性能的影响[J].人工晶体学报,2005,34(2):364-368. 被引量:3
  • 2陈光华,郭永平,张仿清,宋志忠.立方氮化硼薄膜的织构生长[J].科学通报,1995,40(6):499-501. 被引量:3
  • 3陈光华 郭永平 等.c-BN薄膜的生长[J].科学通报,1995,40:499-502.
  • 4陈光华,科学通报,1995年,40卷,499页
  • 5宋志忠,物理,1995年,24卷,307页
  • 6Song Z,Appl Phys Lett,1994年,65卷,2669页
  • 7Zhang F,Appl Phys Lett,1994年,65卷,971页
  • 8Sokolowski M. Deposition of wurtzite type boron ni tride layers by reactive pulse plasma crystallization. J Cryst Growth, 19 7 9 ; 46:136
  • 9(美)施敏著,王阳元,嵇光大,卢文豪译.半导体器件物理与工艺,北京:科学出版社,1992:569
  • 10Edgar, James H. Properties of Group Ⅲ Nitrides, London: inspec, 1994: 94

引证文献11

二级引证文献18

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