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一种基于GaAs pHEMT工艺的高效率E类功率放大器设计
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作者 刘柯 曾琳淇 +2 位作者 叶志聪 张志浩 章国豪 《广东工业大学学报》 2025年第6期18-26,共9页
针对5G Sub-6 GHz通信系统对S波段(2~4 GHz)射频功率放大器(Power Amplifier,PA)在高效率、高线性度及宽带性能方面的迫切需求,本文提出了一种基于砷化镓赝配高电子迁移率晶体管(Gallium Arsenide Pseudomorphic High Electron Mobility... 针对5G Sub-6 GHz通信系统对S波段(2~4 GHz)射频功率放大器(Power Amplifier,PA)在高效率、高线性度及宽带性能方面的迫切需求,本文提出了一种基于砷化镓赝配高电子迁移率晶体管(Gallium Arsenide Pseudomorphic High Electron Mobility Transistor,GaAs pHEMT)工艺的创新设计。传统硅基CMOS工艺在高频场景中受限于击穿电压与寄生效应,而氮化镓(GaN)工艺因成本与集成度问题难以广泛应用。因此,研究聚焦于GaAs pHEMT工艺的潜力,旨在通过优化谐波抑制与阻抗匹配网络,突破S波段PA在效率、带宽及谐波抑制方面的技术瓶颈,同时探索其在射频前端模组中的集成应用。研究采用混合π型谐波匹配网络与电抗补偿技术,通过单级拓扑结构集成阻抗变换、谐波抑制及寄生参数动态补偿功能,解决了传统多级LC网络带宽受限(<10%)与面积冗余的难题。设计结合片外分立LC补偿模块,优化高频寄生效应,并采用两级级联架构(驱动级与功率级)提升增益与功率输出。通过精确调谐栅极(0.38 V/0.45 V)与漏极(6 V)偏置电压,结合版图对称布局与电磁仿真优化,显著降低非线性失真与直流功耗。实验结果表明,所设计的E类功率放大器在2.45~2.85 GHz频段内实现15%的相对带宽,二次谐波抑制比优于20 dB(5.3 GHz处),负载阻抗优化至50Ω。实测功率附加效率(Power Added Efficiency,PAE)在中心频率2.65 GHz时达到56.4%,输出功率为26.2 dBm,增益为26 dB,综合性能优于同类研究。 展开更多
关键词 砷化镓赝配高电子迁移率晶体管 E类功率放大器 并联π型谐波匹配网络 电抗补偿技术 5G Sub-6 GHz通信系统
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基于0·25μm GaAs PHEMT工艺的32GHz毫米波单片功率放大器 被引量:6
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作者 顾建忠 张健 +3 位作者 喻筱静 钱蓉 李凌云 孙晓玮 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期2160-2162,共3页
设计、制造和测试了基于0·25μm栅长GaAs工艺的32GHz毫米波单片功率放大器.该功率放大器采用三级放大,工作电压为6V,工作电流为600mA.带内最大小信号增益为17·4dB,在32GHz具有0·5W的饱和功率输出.
关键词 毫米波单片集成电路 功率放大器 赝配高电子迁移率晶体管
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AlGaAs/InGaAs功率PHEMT用异质材料的计算机优化与器件实验结果 被引量:4
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作者 陈效建 刘军 郑雪帆 《固体电子学研究与进展》 CSCD 北大核心 1995年第2期133-141,共9页
借助一新的工艺模拟与异质器件模型用CAD软件──POSES(Poisson-SchroedingerEquationSolver),对以AlGaAs/InGaAs异质结为基础的多种功率PHEMT异质层结构系统(传统、... 借助一新的工艺模拟与异质器件模型用CAD软件──POSES(Poisson-SchroedingerEquationSolver),对以AlGaAs/InGaAs异质结为基础的多种功率PHEMT异质层结构系统(传统、单层与双层平面掺杂)进行了模拟与比较,确定出优化的双平面掺杂AlGaAs/InGaAs功率PHEMT异质结构参数,并结合器件几何结构参数的设定进行器件直流与微波特性的计算,用于指导材料生长与器件制造。采用常规的HEMT工艺进行AlGaAs/InGaAs功率PHEMT的实验研制。对栅长0.8μm、总栅宽1.6mm单胞器件的初步测试结果为:IDss250~450mA/mm;gm0250~320mS/mm;Vp-2.0-2.5V;BVDS5~12V。7GHz下可获得最大1.62W(功率密度1.0W/mm)的功率输出;最大功率附加效率(PAE)达47%。 展开更多
关键词 功率phemt CAD 异质结 双平面掺杂
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Ka波段功率PHEMT的设计与研制 被引量:1
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作者 郑雪帆 陈效建 +1 位作者 高建峰 王军贤 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期266-273,共8页
报道了Ka 波段功率PHEMT的设计和研制结果。利用双平面掺杂的AlGaAs/InGaAsPHEMT材料,采用0.2 μm 的T型栅及槽型通孔接地技术,研制的功率PHEMT的初步测试结果为:Idss:365 m A/m m... 报道了Ka 波段功率PHEMT的设计和研制结果。利用双平面掺杂的AlGaAs/InGaAsPHEMT材料,采用0.2 μm 的T型栅及槽型通孔接地技术,研制的功率PHEMT的初步测试结果为:Idss:365 m A/m m ;gm 0:320 m S/m m ;Vp:- 1.0~- 2.0 V。总栅宽为750 μm 的功率器件在频率为33 GHz时,输出功率大于280 m W,功率密度达到380 m W/m m ,增益大于6 dB。 展开更多
关键词 场效应晶体管 phemt 异质结 毫米波 设计
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S波段大功率GaAs PHEMT单片放大器 被引量:2
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作者 武继斌 吴洪江 +1 位作者 张志国 高学邦 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2011年第8期489-493,共5页
GaAs单片集成电路具有体积小、质量轻和可靠性高等特性,已经成为微波领域重要的器件。采用MBE技术生长出双面掺杂AlGaAs/InGaAs PHEMT结构的外延材料,研制了高效率的GaAs PHEMT器件,S波段功率附加效率大于55%。建立了基于EEHEMT的大信... GaAs单片集成电路具有体积小、质量轻和可靠性高等特性,已经成为微波领域重要的器件。采用MBE技术生长出双面掺杂AlGaAs/InGaAs PHEMT结构的外延材料,研制了高效率的GaAs PHEMT器件,S波段功率附加效率大于55%。建立了基于EEHEMT的大信号模型,利用ADS软件搭建了有耗匹配的二级放大电路拓扑结构,进行最佳效率匹配,得到优化电路。采用4英寸(1英寸=2.54cm)GaAs0.35μm标准工艺研制了AlGaAs/InGaAs/GaAsPHEMT MMIC电路,测试结果表明,在测试频率为2.2~3.4GHz,测试电压VDS为10V时,输出功率大于12W,功率增益大于22dB,功率附加效率大于40%。 展开更多
关键词 AlGaAs/InGaAs phemt 单片功率放大器 大功率 S波段
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Ka波段PHEMT功率放大器 被引量:1
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作者 陈新宇 高建峰 +1 位作者 王军贤 陈效建 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2001年第4期371-374,共4页
报道了 Ka波段的 PHEMT功率放大器的设计和研制。 PHEMT器件采用 0 .2 μm栅长的 Φ 76 mm Ga As工艺制作 ,并利用 CAD技术指导材料生长和器件制作。单级的 MIC放大器采用0 .3mm栅宽的 PHEMT,在 34GHz处 ,输出功率 10 0 m W,功率增益 4 ... 报道了 Ka波段的 PHEMT功率放大器的设计和研制。 PHEMT器件采用 0 .2 μm栅长的 Φ 76 mm Ga As工艺制作 ,并利用 CAD技术指导材料生长和器件制作。单级的 MIC放大器采用0 .3mm栅宽的 PHEMT,在 34GHz处 ,输出功率 10 0 m W,功率增益 4 d B。 展开更多
关键词 赝配高电子迁移率晶体管 功率放大器 KA波段
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一种Ka波段PHEMT单片集成功率放大器设计 被引量:4
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作者 李彩红 《现代电子技术》 2013年第4期127-129,共3页
基于GaAs衬底PHEMT工艺的新一代微波器件,具有截止频率高,增益大以及效率高的特点,该工艺更适合于微波频率的应用。采用WIN半导体公司的0.15μm PHEMT工艺设计了工作在29~31 GHz Ka波段单片集成功率放大器,电路采用RC并联网络实现稳定性... 基于GaAs衬底PHEMT工艺的新一代微波器件,具有截止频率高,增益大以及效率高的特点,该工艺更适合于微波频率的应用。采用WIN半导体公司的0.15μm PHEMT工艺设计了工作在29~31 GHz Ka波段单片集成功率放大器,电路采用RC并联网络实现稳定性能,三级放大结构满足功率增益在30 GHz处为27 dB,输出1 dB压缩点功率为30 dBm,输入驻波比小于1.5,功率附加效率为35%。电路采用6 V电源供电,芯片面积为2.30 mm×1.23 mm。最后设计通过仿真,得出在30 GHz的时候,P1dB输出功率达到30.4 dBm,PAE为35%,输入驻波比为1.26,功率增益为27 dB左右。在整个频段里面稳定系数远大于1,整个电路利用RC并联稳定网络实现了无条件稳定,达到了设计的要求。 展开更多
关键词 KA波段 phemt MMIC 功率放大器
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Ku波段10W功率PHEMT
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作者 陈堂胜 杨立杰 +2 位作者 周焕文 李拂晓 陈效建 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2003年第1期42-44,50,共4页
报告了研制的 9.6mm栅宽双δ-掺杂功率 PHEMT,在 fo=1 1 .2 GHz、Vds=8.5 V时该器件输出功率3 7.2 8d Bm,功率增益 9.5 d B,功率附加效率 44.7% ,在 Vds=5~ 9V的范围内 ,该器件的功率附加效率均大于42 % ,两芯片合成 ,在 1 0 .5~ 1 1 ... 报告了研制的 9.6mm栅宽双δ-掺杂功率 PHEMT,在 fo=1 1 .2 GHz、Vds=8.5 V时该器件输出功率3 7.2 8d Bm,功率增益 9.5 d B,功率附加效率 44.7% ,在 Vds=5~ 9V的范围内 ,该器件的功率附加效率均大于42 % ,两芯片合成 ,在 1 0 .5~ 1 1 .3 GHz范围内 ,输出功率大于 3 9.92 d Bm,最大功率达到 40 .3 7d Bm,功率增益大于 9.9d B,典型的功率附加效率 40 %。 展开更多
关键词 KU波段 功率phemt 内匹配 赝配高电子迁移率晶体管 固态功率放大器
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SOI和pHEMT双刀五掷开关对比设计与实现 被引量:1
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作者 张志浩 黄亮 +1 位作者 余凯 章国豪 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 2015年第3期246-252,共7页
采用0.32μm CMOS-SOI工艺和D-mode 0.5μm GaAs pHEMT工艺设计了同一款双刀五掷射频开关,CMOS-SOI开关的设计应用了负压偏置电路和堆叠管子技术实现,GaAs pHEMT版本采用直流电压悬浮技术和三栅管与前馈电容技术实现。在0.9 GHz和1.9 GH... 采用0.32μm CMOS-SOI工艺和D-mode 0.5μm GaAs pHEMT工艺设计了同一款双刀五掷射频开关,CMOS-SOI开关的设计应用了负压偏置电路和堆叠管子技术实现,GaAs pHEMT版本采用直流电压悬浮技术和三栅管与前馈电容技术实现。在0.9 GHz和1.9 GHz时,SOI和pHEMT开关的插入损耗分别为0.41dB/0.65dB和0.27dB/0.52dB,隔离度分别为26.9dB/25.7dB和24.1dB/31.3dB。两个版本在输入功率为28dBm且频率为1.9GHz时,二次、三次谐波均小于-49dBm。 展开更多
关键词 双刀五掷射频开关 绝缘硅 高电子迁移率晶体管 插入损耗 隔离度 功率处理能力
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用于移动通信的砷化镓高频PHEMT小功率晶体管
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作者 李拂晓 蒋幼泉 +6 位作者 张少芳 高建峰 黄念宁 徐中仓 陈新宇 杨乃彬 林金庭 《电子元器件应用》 2002年第4期17-18,33,共3页
砷化镓PHEMT功率器件具有工作频率高,输出功率密度大,效率高,功率增益高等特点。我们研制的0.5μm栅长GaAs PHEMT小功率晶体管,栅宽1mm,直流跨导250ms/mm,栅漏反向击穿电压大于13V,在20GHz下最大可用增益为8dB,X波段输出功率为0.8W/mm,... 砷化镓PHEMT功率器件具有工作频率高,输出功率密度大,效率高,功率增益高等特点。我们研制的0.5μm栅长GaAs PHEMT小功率晶体管,栅宽1mm,直流跨导250ms/mm,栅漏反向击穿电压大于13V,在20GHz下最大可用增益为8dB,X波段输出功率为0.8W/mm,可应用于22GHz以下的窄带功率放大器和18GHz以下的宽带功率放大器。 展开更多
关键词 移动通信 砷化镓 高频 小功率 晶体管 功率器件
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基于GaAs pHEMT的W波段多通道发射前端MMIC研究
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作者 王雨桐 方园 +6 位作者 林勇 薛昊东 汪璐 陈艳 卢军廷 郑俊平 李明 《微波学报》 CSCD 北大核心 2020年第S01期222-224,共3页
基于GaAs赝配型高电子迁移率晶体管(pHEMT)工艺,研制了一款96-105GHz的四通道发射多功能芯片,完成信号的多通道倍频放大。电路由Ka、W两个不同频段的功率放大器,一个三倍频器和一个单刀四掷(SP4T)开关构成。测试结果表明,输入频率32-35G... 基于GaAs赝配型高电子迁移率晶体管(pHEMT)工艺,研制了一款96-105GHz的四通道发射多功能芯片,完成信号的多通道倍频放大。电路由Ka、W两个不同频段的功率放大器,一个三倍频器和一个单刀四掷(SP4T)开关构成。测试结果表明,输入频率32-35GHz,输入功率0dBm情况下,在输出频率96-105GHz频段内,该四通道发射前端芯片输出功率大于6.5dBm,输入电压驻波比小于1.6:1,输出电压驻波比小于2.5:1。其中,电路为5V和-5V供电;开关控制电压为-5V/0V。芯片尺寸为5.90mm×2.15mm×0.07mm。 展开更多
关键词 GaAs phemt 倍频器 功率放大器 单刀四掷开关
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基于GaAs PHEMT工艺的60~90GHz功率放大器MMIC
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作者 孟范忠 薛昊东 方园 《半导体技术》 CAS 北大核心 2021年第3期193-197,共5页
研制了一款60~90 GHz功率放大器单片微波集成电路(MMIC),该MMIC采用平衡式放大结构,在较宽的频带内获得了平坦的增益、较高的输出功率及良好的输入输出驻波比(VSWR)。采用GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)标准工艺进行了流片,在片测... 研制了一款60~90 GHz功率放大器单片微波集成电路(MMIC),该MMIC采用平衡式放大结构,在较宽的频带内获得了平坦的增益、较高的输出功率及良好的输入输出驻波比(VSWR)。采用GaAs赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)标准工艺进行了流片,在片测试结果表明,在栅极电压为-0.3 V、漏极电压为+3 V、频率为60~90 GHz时,功率放大器MMIC的小信号增益大于13 dB,在71~76 GHz和81~86 GHz典型应用频段,功率放大器的小信号增益均大于15 dB。载体测试结果表明,栅极电压为-0.3 V、漏极电压为+3 V、频率为60~90 GHz时,该功率放大器MMIC饱和输出功率大于17.5 dBm,在71~76 GHz和81~86 GHz典型应用频段,其饱和输出功率可达到20 dBm。该功率放大器MMIC尺寸为5.25 mm×2.10 mm。 展开更多
关键词 GaAs赝配高电子迁移率晶体管(phemt) 功率放大器(PA) 平衡式放大器 单片微波集成电路(MMIC) E波段
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9~15 GHz GaAs E-PHEMT高性能线性功率放大器 被引量:9
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作者 魏碧华 蔡道民 武继斌 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第7期489-492,498,共5页
基于0.15μm GaAs增强型赝配高电子迁移率晶体管(E-PHEMT)工艺,研制了一款用于5G通信和点对点传输的高性能线性功率放大器单片微波集成电路(MMIC)。采用栅宽比为1∶4.4的两级放大结构保证了电路的增益和功率指标满足要求;基于大信号模... 基于0.15μm GaAs增强型赝配高电子迁移率晶体管(E-PHEMT)工艺,研制了一款用于5G通信和点对点传输的高性能线性功率放大器单片微波集成电路(MMIC)。采用栅宽比为1∶4.4的两级放大结构保证了电路的增益和功率指标满足要求;基于大信号模型实现了最优输入输出阻抗匹配;采用电磁场仿真技术优化设计的MMIC芯片尺寸为2.5 mm×1.1 mm。芯片的在片测试结果表明,静态直流工作点为最大饱和电流的35%、漏压为5 V的条件下,在9~15 GHz频率内,MMIC功率放大器小信号增益大于20 dB,1 dB压缩点输出功率不小于27 dBm,功率附加效率不小于35%,功率回退至19 dBm时三阶交调不大于-37 dBc。 展开更多
关键词 增强型赝配高电子迁移率晶体管(E-phemt) 单片微波集成电路(MMIC) 功率放大器 GAAS 功率附加效率(PAE)
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基于GaAs工艺的低功耗静态分频器设计
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作者 应子辰 苏国东 +1 位作者 王翔 刘军 《电子设计工程》 2026年第4期1-5,共5页
文中设计了一款1~12 GHz的低功耗静态分频器。该电路采用电流模式逻辑(Current Mode Logic,CML)拓扑结构,由两级CML锁存器级联构成。针对GaAs工艺下静态分频器电路直流功耗高的问题,文中提出在CML锁存器电路中采用低压电路拓扑,实现了在... 文中设计了一款1~12 GHz的低功耗静态分频器。该电路采用电流模式逻辑(Current Mode Logic,CML)拓扑结构,由两级CML锁存器级联构成。针对GaAs工艺下静态分频器电路直流功耗高的问题,文中提出在CML锁存器电路中采用低压电路拓扑,实现了在GaAs pHEMT工艺下的静态分频器低功耗设计。该静态分频器基于0.25μm GaAs pHEMT工艺设计,通过ADS软件对所设计的静态分频器进行版图设计、版图电磁仿真与电路性能仿真验证。结果表明,静态分频器能够在频率为1~12 GHz的输入时钟信号下完成二分频操作,在3 V供电电压下,静态分频器直流功耗仅为46 mW,分频器相位噪声优于-158 dBc/Hz@1 MHz offset。 展开更多
关键词 GaAs phemt 静态分频器 电流模式逻辑 低功耗 二分频
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基于GaAs PHEMT的Ka波段功率放大器设计 被引量:2
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作者 马明月 万晶 +3 位作者 王魁松 阎跃鹏 俞梅 梁晓新 《南开大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2019年第6期19-22,共4页
基于0.15μm GaAs PHEMT工艺,设计了一款Ka波段功率放大器.设计中改进了拓扑结构和稳定电路,优化栅宽,将匹配电路与Wilkinson功分器结合,并采用预匹配技术与频率补偿技术,达到了提高增益,减小芯片尺寸及损耗的目的.仿真结果显示,该功率... 基于0.15μm GaAs PHEMT工艺,设计了一款Ka波段功率放大器.设计中改进了拓扑结构和稳定电路,优化栅宽,将匹配电路与Wilkinson功分器结合,并采用预匹配技术与频率补偿技术,达到了提高增益,减小芯片尺寸及损耗的目的.仿真结果显示,该功率放大器在28-30.5 GHz频带内功率P1 dB大于38 dBm,功率附加效率大于18%,增益大于23.5 dB,芯片面积为3.69×3.87 mm2. 展开更多
关键词 功率放大器 GaAs phemt KA波段 预匹配技术 频率补偿技术
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毫米波PHEMT功率单片集成电路研究 被引量:1
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作者 刘晨晖 张穆义 高学邦 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2006年第3期194-198,共5页
介绍了膺配高电子迁移率材料结构和8mm PHEMT功率器件;利用窄脉冲高速Ⅰ-Ⅴ CAT系统测量系统,建立了8mm功率PHEMT非线性模型;应用设计软件来模拟和优化毫米波功率MMIC;通过解决研制过程中各关键工艺技术,使8mm功率PHEMT单片集成电路的... 介绍了膺配高电子迁移率材料结构和8mm PHEMT功率器件;利用窄脉冲高速Ⅰ-Ⅴ CAT系统测量系统,建立了8mm功率PHEMT非线性模型;应用设计软件来模拟和优化毫米波功率MMIC;通过解决研制过程中各关键工艺技术,使8mm功率PHEMT单片集成电路的投片一次成功,并给出了测得的功率单片集成电路性能为33-34GHz,Po>100mW。 展开更多
关键词 毫米波 膺配高电子迁移率晶体管 功率 单片集成电路
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14~14.5GHz 20W GaAs PHEMT内匹配微波功率管 被引量:1
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作者 赵博 唐世军 王帅 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2009年第5期725-728,共4页
介绍了一种Ku波段内匹配微波功率场效应晶体管。采用GaAs PHEMT 0.25μmT型栅工艺,研制出总栅宽为14.4mm的功率PHEMT管芯。器件由四管芯合成,在14~14.5GHz频率范围内,输出功率大于20W,附加效率大于27%,功率增益大于6dB,增益平坦度为... 介绍了一种Ku波段内匹配微波功率场效应晶体管。采用GaAs PHEMT 0.25μmT型栅工艺,研制出总栅宽为14.4mm的功率PHEMT管芯。器件由四管芯合成,在14~14.5GHz频率范围内,输出功率大于20W,附加效率大于27%,功率增益大于6dB,增益平坦度为±0.3dB。 展开更多
关键词 砷化镓 赝配高电子迁移率晶体管 微波功率场效率晶体管
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X波段PHEMT功率单片放大器 被引量:1
18
作者 张书敬 杨瑞霞 +1 位作者 武继斌 杨克武 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第10期1800-1803,共4页
报道了X波段8WAlGaAs/InGaAs/GaAsPHEMTMMIC功率单片放大器的设计和研制.放大器采用两级拓扑结构,输入输出为50Ω阻抗匹配,芯片面积为4·5mm×3mm.测试结果显示,在7·5V和1·5A的DC偏置下,输出功率在8W以上,功率附加效... 报道了X波段8WAlGaAs/InGaAs/GaAsPHEMTMMIC功率单片放大器的设计和研制.放大器采用两级拓扑结构,输入输出为50Ω阻抗匹配,芯片面积为4·5mm×3mm.测试结果显示,在7·5V和1·5A的DC偏置下,输出功率在8W以上,功率附加效率为30%,功率增益为15dB. 展开更多
关键词 phemt X波段 MMIC 功率放大器
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PHEMT MMIC功率放大器设计与实现
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作者 黄晓俊 邢凌燕 《现代电子技术》 2009年第7期171-173,共3页
介绍一种PHEMT MMIC功率放大器设计与实现方案。方案采用内匹配电路,盒体设计考虑到电路腔体内部电磁兼容特性的影响,因此具有增益高、集成度高、寄生特性较低、可靠性高和可操作性好等优点。将此设计方案通过仿真验证,结果表明各项指... 介绍一种PHEMT MMIC功率放大器设计与实现方案。方案采用内匹配电路,盒体设计考虑到电路腔体内部电磁兼容特性的影响,因此具有增益高、集成度高、寄生特性较低、可靠性高和可操作性好等优点。将此设计方案通过仿真验证,结果表明各项指标可以满足设计预期的期望值,同时证明了方案的可行性。 展开更多
关键词 赝配高电子迁移率晶体管 微波单片集成电路 功率放大器 增益
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Simulation and experimental study of high power microwave damage effect on AlGaAs/InGaAs pseudomorphic high electron mobility transistor 被引量:9
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作者 于新海 柴常春 +2 位作者 刘阳 杨银堂 席晓文 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第4期525-529,共5页
The high power microwave (HPM) damage effect on the AIGaAs/InGaAs pseudomorphic high electron mobility transistor (pHEMT) is studied by simulation and experiments. Simulated results suggest that the HPM damage to ... The high power microwave (HPM) damage effect on the AIGaAs/InGaAs pseudomorphic high electron mobility transistor (pHEMT) is studied by simulation and experiments. Simulated results suggest that the HPM damage to pHEMT is due to device burn-out caused by the emerging current path and strong electric field beneath the gate. Besides, the results demonstrate that the damage power threshold decreases but the energy threshold slightly increases with the increase of pulse-width, indicating that HPM with longer pulse-width requires lower power density but more energy to cause the damage to pHEMT. The empirical formulas are proposed to describe the pulse-width dependence. Then the experimental data validate the pulse-width dependence and verify that the proposed formula P = 55τ^-0.06 is capable of quickly and accurately estimating the HPM damage susceptibility of pHEMT. Finally the interior observation of damaged samples by scanning electron microscopy (SEM) illustrates that the failure mechanism of the HPM damage to pHEMT is indeed device bum-out and the location beneath the gate near the source side is most susceptible to bum-out, which is in accordance with the simulated results. 展开更多
关键词 phemt damage mechanism high power microwave pulse-width
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