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包含多子带结构的MOS器件开启电压量子力学效应修正模型 被引量:9
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作者 马玉涛 李志坚 刘理天 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第3期219-224,共6页
量子力学效应对于深亚微米 MOSFET特性的影响随着衬底浓度的增加和栅氧层厚度的减小而日益显著 .实验结果表明 :量子力学效应能够导致开启电压明显的漂移 .本文通过比较薛定谔方程在抛物线势垒下的数值解和三角势垒下的解析解验证了 MO... 量子力学效应对于深亚微米 MOSFET特性的影响随着衬底浓度的增加和栅氧层厚度的减小而日益显著 .实验结果表明 :量子力学效应能够导致开启电压明显的漂移 .本文通过比较薛定谔方程在抛物线势垒下的数值解和三角势垒下的解析解验证了 MOS结构弱反型区量子力学效应三角势垒近似的正确性 .在计算弱反型区量化层内子带结构的基础上 ,提出量子化有效态密度和经典有效态密度的概念 ,分析了载流子在子带中的分布情况 ,讨论了量子力学效应影响开启电压的两个因素 ,并在此基础上给出了开启电压的量子力学修正模型 .该模型准确地揭示了量子力学效应影响开启电压的物理实质 。 展开更多
关键词 MOS器件 多子带结构 量子力学效应 修正模型
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具有保护功能的并联功率MOSFET驱动器 被引量:1
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作者 王宝诚 年英梅 +1 位作者 张纯江 邓剑华 《电气传动》 北大核心 1998年第3期49-50,53,共3页
本文介绍了一个用于多管功率MOSFET并联应用的驱动电路,该电路具有故障检测与保护功能,简单、实用、可靠。
关键词 功率 场效应晶体管 驱动电路 并联 MOSFET
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MOS结构辐照陷阱消长研究的快速I—V技术
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作者 张国强 任迪远 +2 位作者 陆妩 范隆 严荣良 《固体电子学研究与进展》 CAS CSCD 北大核心 1998年第3期329-333,共5页
建立一套用于MOS结构辐照陷阱消长规律研究的快速I-V在线测试系统,用此系统可进行自动加偏和Ids-Vgs亚阀曲线测试,从面可快速定性定量获得辐照和退火环境中氧化物电荷和Si/SiO2界面随辐照剂量,时间,偏置等的依... 建立一套用于MOS结构辐照陷阱消长规律研究的快速I-V在线测试系统,用此系统可进行自动加偏和Ids-Vgs亚阀曲线测试,从面可快速定性定量获得辐照和退火环境中氧化物电荷和Si/SiO2界面随辐照剂量,时间,偏置等的依赖关系,快速I-V测试系统最高可以达到1次/秒的Ids-Vgs测量速度,用此系统研究了PMOSFET5×10^3Gy(Si)总剂量辐照后100℃恒温退火下,辐照陷阱的消长规律和机制。 展开更多
关键词 MOS 辐照 退火 氧化物电荷 界面态 快速I-V技术
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VDMOS结构击穿电压的设计与分析
4
作者 徐伟 《半导体杂志》 1998年第4期12-16,共5页
本文引用了附加有浮动电位保护环和场板的VDMOS结构击穿电压的解析表达式,描述了浮动电位保护环和场板效应对穿通击穿电压的改进,经比较理论结果与测量数据有较好的一致性。
关键词 保护环 场板 MOSFET VDMOS 结构击穿电压
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MOSFET衬底电流模型及参数提取
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作者 刘永强 于奇 +2 位作者 刘玉奎 李竞春 陈勇 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 1999年第3期174-177,共4页
在短沟道MOSFET器件物理的基础上,导出了其衬底电流解析模型,并通过实验进行了模型参数提取。模型输出与短沟MOSFET实测结果比较接近,可应用于VLSI/ULSI可靠性模拟与监测研究和亚微米CMOS电路设计。
关键词 MOSFET 半导体器件 衬底电流模型 参数提取
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全耗尽SOIMOSFET及CMOS/SOI电路的研究
6
作者 张正璠 刘永光 《微电子学》 CAS CSCD 1996年第3期143-145,共3页
采用SIMOX材料,研制了一种全耗尽CMOS/SOI模拟开关电路。研究了全耗尽SOIMOS场效应晶体管的阈值电压与背栅偏置的依赖关系,对漏源击穿的Snapback特性进行了分析。介绍了薄层CMOS/SIMOX制作工艺... 采用SIMOX材料,研制了一种全耗尽CMOS/SOI模拟开关电路。研究了全耗尽SOIMOS场效应晶体管的阈值电压与背栅偏置的依赖关系,对漏源击穿的Snapback特性进行了分析。介绍了薄层CMOS/SIMOX制作工艺,给出了全耗尽CMOS/SOI电路的测试结果。 展开更多
关键词 半导体材料 半导体器件 SOI MOSFET 模拟开关
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功率MOSFET的结构特性
7
作者 赵永健 李序葆 《电气自动化》 北大核心 1991年第3期40-45,共6页
关键词 功率场控 晶体管 结构
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MOS结构二氧化硅层中电子热化与击穿
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作者 张积之 《电子产品可靠性与环境试验》 1995年第2期38-43,共6页
本文讨论了MOS结构二氧化硅膜中电子热化现象的实验证据,表明:当氧化物电场≥5MV/cm时,注入到二氧化硅膜中的电子逐渐地热化。热电子在二氧化硅膜中产生新的电荷陷阱中心,当电荷陷阱中心的密度增大到一定程度时,导致二氧化硅膜的电击穿。
关键词 MOS结构 二氧化硅 电子热化 击穿
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电阻栅MOSFET电流模型分析
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作者 朱秀菊 《辽宁师专学报(自然科学版)》 2000年第3期25-28,共4页
以普通长沟道MOSFET的电流模型为基础 ,推导出RG—MOSFET一级近似下电流模型的解析表达式 .
关键词 RG-MOSFET 电流模型 电阻栅 载流子 漂移速度 电位分布 场效应晶体管
全文增补中
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