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掺金单晶硅特性的研究 被引量:2

A STUDY ON PROPERTIES OF Au-DOPED SILICON
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摘要 本文研究单晶硅掺金前后的表面光伏和红外吸收谱,证实在相同表面状况下,红外吸收谱的基线与少子扩散长度的对应关系;由半导体统计,推导出简并因子不等于1时扩金硅的统计公式,以及金受主简并因子gAu,≠1,金施主简并因子gAu,d≠1硅双重能级复合理论公式,由此计算的少子寿命值与测量值之比在1.64—0.745之间。 In this paper infra-red absorption spectra and surface photovoltaic spectra of An-doped and undoped silicon are studied. The relation of minority carrier diffusion length to the height of base line of infra-red absorption spectra under the same surface condition is determined. By using semiconductor statistics, we obtain the Au-doped silicon semicondutor statistics formulae when the degeneracy factor is different from unit, as well as silicon two-levels recombination theory formulae when gAu,a≠1 and gAn,d ≠ 1 The ratios of the ca-culated lifetime of minority carrier to the experimental data are between 1.64 and 0.745.
机构地区 厦门大学物理系
出处 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1992年第3期491-499,共9页 Acta Physica Sinica
基金 国家自然科学基金
  • 相关文献

参考文献5

  • 1陈敏锐,1990年
  • 2吴建国,1989年
  • 3王占国,半导体学报,1987年,3卷,236页
  • 4沈Yi华,固体电子学研究与进展,1985年,5卷,273页
  • 5团体著者,计算方法.上

同被引文献27

引证文献2

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