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底面对准曝光中的对准技术研究 被引量:2

A Study on Bottom Side Alignment Technique in Lithography
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摘要 主要论述了底面对准光刻机的对准原理。 The principle of bottom side alignment,the stage structure and the selection of the shape and size of the alignment mark are discussed.
出处 《微细加工技术》 2002年第3期36-39,共4页 Microfabrication Technology
关键词 光刻机 底面对准 工件台 对准标记 lithography system bottom side alignment stage alignment mark
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