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硅中与钼有关能级的研究 被引量:2

Study of Energy Levels Related to Mo in Silicon
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摘要 利用深能级瞬态谱(DLTS)技术,并通过电子辐照、等时热退火等物理过程,鉴别了Si中与钼有关能级的本质.钼在Si中产生两个主要能级E(0.53)和H(0.36),前者为受主态,后者为施主态,这两个能级都与替位Mo原子有关. We have identified the energy levels related to Mo in silicon by using DLTS technique.With the methods of electron irradiation and isochronous annealing, we have obtained the twomain energy levels of E(0.53) and H(0.36). The former is an acceptor and the latter is z do-nor.These levels are related to substitutional Mo atoms.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1992年第1期8-13,共6页 半导体学报(英文版)
关键词 能级 能级瞬态谱 电子辐照 Crystals Atomic Structure Semiconducting Silicon Compounds Performance
  • 相关文献

参考文献3

  • 1周洁,J Appl Phys,1991年,69卷,2251页
  • 2周洁,J Appl Phys,1991年,69卷,2746页
  • 3周洁,Chin Phys Lett,1986年,3卷,5页

同被引文献11

引证文献2

二级引证文献2

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