期刊文献+

化学镀锡工艺条件的优化 被引量:16

Optimization of the Process Conditions of Electroless Tin Plating
在线阅读 下载PDF
导出
摘要 通过对化学镀锡液组成的调试和完善 ,研究了新的工艺配方中工艺条件对沉积速度和镀层中锡含量的影响 ,优化了化学镀锡的最佳工艺。此外 ,试验结果表明 :次亚磷酸钠对反应动力学有积极的促进作用 ,能明显提高锡的化学沉积速度 ;镀液中没有络合剂时 ,化学反应不能进行 ;添加剂B和添加剂C均能细化晶粒 。 The effects of process conditions on deposition rate and tin content of the coatings are studied by adjusting and improving the bath compositions so that the process conditions of electroless tin plating are optimized. The experimental results also show that NaH 2PO 2 in the bath has a positive role in promoting reaction dynamics, and can greatly enhance the deposition rate of electroless tin; the chemical reaction cannot occur without complexing agent in bath. Both additive B and C can make crystals finer, but the deposition rate will decrease with the increasing of their concentrations.
出处 《电镀与环保》 CAS CSCD 2002年第5期13-16,共4页 Electroplating & Pollution Control
关键词 化学镀 优化 镀锡 沉积速度 工艺条件 Electroless tin plating Deposition rate Process condition
  • 相关文献

参考文献7

二级参考文献31

  • 1张勇强,刘兴全.锡基合金可焊性及酸性镀锡稳定剂研究[J].电镀与环保,1994,14(4):3-5. 被引量:7
  • 2蔡积庆.印制板浸镀Sn-Pb合金[J].电镀与环保,1994,14(5):7-9. 被引量:2
  • 3蔡积庆.化学镀SnPb合金[J].上海电镀,1994(1):12-14. 被引量:3
  • 4曾华梁 吴仲达 等.电镀工艺手册[M].北京:机械工业出版社,1996.79.
  • 5曾华梁 吴仲达 等.电镀工艺手册(第2版)[M].北京:机械工业出版社,1999.329.
  • 6辜高龙.铜胶体活化法化学沉铜工艺特点及在多层板量产中的控制.第五届全国印制电路学术年会论文集[M].深圳,1996.118-122.
  • 7伍学高.化学镀技术[M].成都:四川科学技术出版社,1987.217-218.
  • 8张允诚 胡如南 等.电镀手册[M].北京:国防工业出版社,1998..
  • 9曾华梁,电镀工艺手册,1996年,9卷
  • 10“表面处理工艺手册”编审委员会,表面处理工艺手册,1991年,1卷

共引文献52

同被引文献251

引证文献16

二级引证文献43

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部