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分子电镀法制备^(237)Np核靶 被引量:3

Preparation of ^(237)Np Targets by Molecular Plating
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摘要 研究了在异丙醇介质中电沉积制备2 3 7Np核靶的方法 ,分析了电流、电压、电镀时间、体系中的含水量等因素对沉积率的影响 ,并给出了2 3 7Np的纯化及不同厚度核靶的制备程序 ,成功地将2 3 7Np以 2~70 0 μg/cm2 The method for preparing 237 Np targets with varying mass thickness from almost carrier free up to 700 μg/cm 2 is studied. 237 Np is deposited almost quantitatively on nickel foils from the solution of their nitrates in isopropyl alcohol by this method. Voltage, electric current and water content in the electrodeposition system which will influence on the deposition yield are investigated. A procedure for purification of 237 Np by extraction and ion exchange is also used.
作者 罗旭
出处 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 2002年第4期409-412,共4页 Atomic Energy Science and Technology
关键词 制备 分子电镀 核靶 沉积率 镎靶 molecular plating 237 Np nuclear targets deposition yield
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