摘要
提出了一种用于制作二维光束整形衍射光学元件的新方法———离子束平动刻蚀工艺。分别介绍了利用这种新方法设计衍射光学元件的原理、设计过程以及刻蚀工艺系统的构成和掩模板的设计方法。结果表明 ,这种新的工艺方法不拘泥于圆对称系统 ,不但继承了离子束旋转刻蚀工艺的位相真正连续分布的优势 ,而且所制作出的衍射光学元件 ,即使对于半导体激光器所产生的两个方向发散角不同的激光束来说也仍然可以进行整形 ,并最终能得到矩形焦斑。这种工艺方法的理论设计也可以从二维化简为两个一维的设计 。
A novel ion beam moving etching technology used to fabricate diffractive optical elements (DOE) is presented. The principle and process of the design diffractiv e optical elements using this new method, and the composition of the etching sy stem, and design method of the mask are introduced.
出处
《光学技术》
EI
CAS
CSCD
2002年第4期345-346,350,共3页
Optical Technique
基金
国家 8 6 3 4 16课题资助项目
