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主成分回归——四阶导数光谱法用于钼、钨的同时测定 被引量:1

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摘要 本文将主成分回归法用于解析钼、钨与 SAF— CTMAB形成配合物体系的四阶导数光谱数据 ,以实现对钼、钨的同时测定。探讨了主因子数、校准集样品数对校准结果的影响 ;对合成样品进行分析 ,结果与加入值相当吻合。当 MO:W为 1∶ 10~ 10∶ 1时 ,二者的相对误差一般在± 10 %之内 ,对于 MO:W为 1∶ 4 0 ,且 MO 的含量低至 2× 10 - 6 μg· L- 1 的样品仍可获得满意的结果。
出处 《安徽教育学院学报》 2002年第3期48-49,62,共3页 Journal of Anhui Institute of Education
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参考文献4

二级参考文献14

  • 1李建军,首届微量技术及痕量分析学术讨论会,1986年
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  • 3倪其道,中国科学技术大学学报,1985年,203页
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  • 6沈含熙,高等学校化学学报,1982年,3卷,300页
  • 7李金和,分析化学
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  • 10团体著者,中华人民共和国药典,1985年

共引文献37

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引证文献1

二级引证文献1

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