摘要
SiN薄膜因为具有良好的减反射性质和钝化作用,已经越来越广泛地应用于多晶硅太阳电池的制造工艺中。介绍了SiN薄膜在硅太阳电池中的性质,制备方法等研究现状,同时提出了存在的问题并展望了今后的发展趋势。
Due to the excellent antireflection and passivation,SiN film has been applied in the high-efficiency
processing of multicrystalline silicon solar cells recently.In this paper,the properties and fabrication techniques of SiN are introduced,and existing problems and future prospect are reviewed.
出处
《材料导报》
EI
CAS
CSCD
2002年第3期23-25,共3页
Materials Reports
基金
国家自然科学基金(№59976035)
教育部优秀青年教师基金
教育部博士点基金
