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丙烯酸酯光致抗蚀干膜制备 被引量:2

Photoresist Based on(meth)Acrylic Esters as Membrane-resin
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摘要 研究了 (甲基 )丙烯酸酯各组份对成膜树脂及抗蚀干膜性能的影响 ,并就曝光时间、光敏引发剂品种、活性单体对干膜性能的影响也进行了讨论。 The effect of the components of the (meth)acrylates on the properties of both the copolymers and the dry films are studied.The other factors,e.g.exposure time, photoinitators,and active monomers,are also discussed.
出处 《信息记录材料》 2000年第3期14-16,共3页 Information Recording Materials
关键词 光致抗蚀剂 甲基丙烯酸酯 光敏引发剂 光敏聚合物 UV光固化 Photoresists (meth)Acrylates Photoinitiators Photosensitive polymers UV-Curing
  • 相关文献

参考文献4

  • 1毛建国,杨鑑惠.苯丁光致抗蚀干膜的改性[J].感光材料,1995(6):25-28. 被引量:1
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  • 3R.霍而曼 P.奥尔德林.印刷油墨,涂料,色漆,紫外光和电子束固化配方[M].北京:原子能出版社,1994..
  • 4禹茂章(译) 精细化学品辞典编辑委员会.精细化学品辞典[M].北京:化学工业出版社,1989..

共引文献28

同被引文献20

引证文献2

二级引证文献8

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