深亚微米同步辐射x射线光刻技术被引量：1

Deep sub-micron synchrotron radiation x-ray lithography technique

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摘要报道了我们制作深亚微米 x射线掩模的工艺和同步辐射 x射线曝光工艺 ,并报道了我们在北京同步辐射装置 (BSRF) 3B1 A光刻束线所获得的深亚微米 In this paper,the deep sub-micron x-ray mask fabrication process and the synchrotron radiation exposure process are reported,and the deep sub-micron x-ray litho-graphy pattern finished in Beijing Synchrotron Radiation Facility(BSRF)3B1A beamline is also reported.

作者谢常青叶甜春陈大鹏赵玲莉胥兴才

机构地区中国科学院微电子中心三室

出处《半导体情报》 2000年第6期35-37,42,共4页 Semiconductor Information

基金 "九五"国家科技攻关资助项目

关键词 X射线光刻同步辐射深亚微米 x-ray lithography resolution synchrotron radiation SiN filh

分类号 TN405.7 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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参考文献4

1Deguchi K,Miyoshi K,Oda M et al.Extendibility of synchrotron radiation lithography to the sub-100nm region[].Journal of Vacuum Science and Technology.1996
2Fuentes R I,Progler C,Bukosky S.Impact of direct x-ray mask substrate materials on optical alignment[].Journal of Vacuum Science and Technology.1992
3Kikuchi Y,Kihara N,Sugihara S et al.Replication of near 0. 1 m hole patterns by using x-ray lithography[].Journal of Vacuum Science and Technology.1996
4Hector S,Pol V,Krasnoperova A et al.x-ray lithography for 100nm ground rules in complex patterns[].Journal of Vacuum Science and Technology.1997

同被引文献10

1范正修,汤雪飞.光学薄膜的温度场设计[J].光学学报,1995,15(4):463-467. 被引量：10
2A Lakhsasi, H Pépin, A Skorek. Transient thermal stability of the X- ray mask SiC- W under short pulse　irradiation[ J ]. Simulation Practice and Theory, 1997,5: 315 - 331.
3Dz- Chi Li, Jeng- Tzong Chen, Shiang - Woei Chyuan, et al . Computer simulations for mask structure heating in X- ray lithography[J]. Computers & Structures, 1996,58(4) : 825 - 834.
4K E Goodson. Solid layer thermal- conductivity measurement techniques[J ]. Applied Mechanics Reviews,1994,47(3) : 101 - 112.
5Xiang Zhang, Costas P Grigoropoulos. Thermal conductivity end diffusivity of free- standing silicon nitride thin films[J]. Review of Scientific Instruments, 1995,66(2) :1115 - 1120.
6G Feiertag, M Schmidt, A Schmidt. Thermoelasic deformations of masks for deep X- ray lithngraphy[J].Microelectronic Engineering, 1995,27: 513 - 516.
7谢常青,叶甜春,孙宝银,伊福廷.0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术[J].微细加工技术,1999(3):32-34. 被引量：2
8余雷,余建祖,高泽溪.一种用于电子薄膜导热系数和发射率测量的实验方案[J].航空学报,2001,22(3):227-230. 被引量：3
9陈大鹏,叶甜春,谢常青,李兵,赵玲莉,韩敬东,胥兴才.LPCVD制备纳米硅镶嵌结构氮化硅膜及其内应力[J].Journal of Semiconductors,2001,22(12):1529-1533. 被引量：14
10陈大鹏,叶甜春,谢常青,李兵,董立军,胥兴才,赵玪莉,韩敬东,彭良强,伊福庭,韩勇,张菊芳.同步辐射光刻技术研究进展[J].核技术,2002,25(10):817-821. 被引量：4

引证文献1

1王永坤,余建祖,余雷,陈大鹏.X射线光刻掩模后烘过程的瞬态热分析[J].微细加工技术,2003(2):34-39. 被引量：2

二级引证文献2

1李淑红,杜春雷,董小春.光刻胶烘培特性研究[J].光电工程,2005,32(3):17-19. 被引量：8
2卢继奎,谷德君.喷胶工艺中光刻胶热应力分析[J].机械工程师,2012(2):84-85.

1谢常青,叶甜春,孙宝银,伊福廷.0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术[J].微细加工技术,1999(3):32-34. 被引量：2
2谢常青,叶甜春,陈梦真.同步辐射X射线光刻实验研究[J].微细加工技术,1997(3):10-13. 被引量：4
3谢常青,陈梦真,赵玲莉,孙宝银,韩敬东,朱樟震,张菊芳.同步辐射x射线光刻实验研究[J].半导体技术,1997,13(6):45-46. 被引量：1
4田扬超.深度同步辐射X射线光刻技术[J].物理,1995,24(2):125-125.
5麻壮华.X射线光刻技术[J].光机电信息,1995,12(8):15-19.
6张东平,乐德芬,胡一贯.同步辐射X射线光刻技术[J].应用光学,2001,22(4):40-44. 被引量：3
7叶甜春,吴沐新,等.纳米尺寸同步辐射X射线光刻技术研究[J].北京同步辐射装置年报,1997(1):132-134.
8徐晓峰,李雅洁.X射线光刻技术的现状[J].光机电信息,2000,17(4):18-20.
9崔明启,刘丽冰,徐文轩,唐鄂生,吴坚武,王培玮,尹福廷,陈光辉.北京同步辐射装置X光光刻束线监测系统[J].核电子学与探测技术,1992,12(6):337-343.
10张秉华.北京同步辐射装置（BSRF）X射线光刻系统的现状和未来[J].光电工程,1994,21(5):44-50. 被引量：1

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