纳米尺寸同步辐射X射线光刻技术研究
摘要
本文报道了作者在同步辐射X射线光刻研究中的一些新进展，其中，最细尺寸已达50纳米。
-
1田扬超.深度同步辐射X射线光刻技术[J].物理,1995,24(2):125-125.
-
2麻壮华.X射线光刻技术[J].光机电信息,1995,12(8):15-19.
-
3张东平,乐德芬,胡一贯.同步辐射X射线光刻技术[J].应用光学,2001,22(4):40-44. 被引量：3
-
4X射线光刻技术的研究与开发进展[J].电子材料与电子技术,1999,26(1):67-68.
-
5谢常青,陈梦真.同步辐射X射线光刻技术研究[J].半导体技术,1996,12(2):24-27. 被引量：3
-
6崔承甲.X射线光刻技术的现状和发展[J].光机电信息,1996,13(9):32-34.
-
7麻壮华.X射线光刻技术[J].光机电信息,1995,12(12):3-6.
-
8冯伯儒,姚汉民,张锦,侯德胜.深紫外和X射线光刻技术[J].光电工程,1997,24(S1):104-112.
-
9谢常青,叶甜春,孙宝银,伊福廷.0.5μm分辨率同步辐射X射线光刻技术[J].微细加工技术,1999(3):32-34. 被引量：2
-
10徐晓峰,李雅洁.X射线光刻技术的现状[J].光机电信息,2000,17(4):18-20.
