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低电压高效率非晶硅发射极异质结UHF功率晶体管 被引量:2

Low Voltage High Efficient Amorphous-Si Emitter Heterojunction UHF Power Transistors
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摘要 本文报道了利用重掺杂氢化非晶硅作宽禁带发射极材料的低电压硅异质结UHF功率晶体管的实验结果.制备的器件在9伏电压、工作频率470MHz下,输出连续波功率4W,功率增益8.2dB,集电极效率72%.在迄今有关非晶硅发射极HBT的报道中。这是首次详细报道可工作于UHF频率的低电压非晶硅发射极异质结功率晶体管.文中还讨论了这种异质结构的低压功率器件的设计和制备应考虑的一些问题,并提出一些解决办法. An UHF silicon heterojunction bipolar power transistor with a heavily doped hydrogenatedamorphous-silicon is reported.The present devices prepared can deliver 4.0 W output powerwith 72% collector efficiency and 8.2 dB gain at 470 MHz for 9.0 V low supply voltage. Thelow voltage amorphous-silicon heterojunction bippolar power transistors available in UHF bandis reported for the first time. In addition, the design and fabrication of low voltage power device using this kind of he-terojunction emitter structure are discussed, and several viable proposals are given.
出处 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 1991年第1期37-44,共8页 半导体学报(英文版)
关键词 功率晶体管 非晶硅 异质结 UHF a-Si: H Heterojunction Microwave Bipolar Power Transistor
  • 相关文献

参考文献10

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  • 5何宇亮,非晶态半导体物理学,1989年
  • 6苏里曼,固体电子学研究与进展,1987年,7卷,331页
  • 7朱恩均,1985年
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  • 9朱恩均,电子学报,1979年,7卷,77页
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同被引文献8

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  • 2王因生,IEEE EDL,1990年,11卷,5期,187页
  • 3王因生,IEEE Trans Electron Dev,1990年,37卷,1期,153页
  • 4魏希文,多晶硅薄膜及其应用,1988年,123页
  • 5朱恩均,Proceedings of the 35th ECC,1985年
  • 6朱恩均,电子学报,1979年,7卷,1期,77页
  • 7王因生,IEEE Electron Dev Lett,1990年,11卷,5期,187页
  • 8王阳元,多晶硅薄膜及其在集成电路中的应用,1988年,135页

引证文献2

二级引证文献7

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