摘要
介绍了磁控溅射法镀膜的基本原理,综述了近年来关于溅射功率、工作压强、氩氧比例、沉积温度和退火等工艺参数以及掺杂对T iO2薄膜结构、形貌和光学性质影响的研究进展,并对磁控溅射技术制备T iO2薄膜的发展方向进行了展望。
The fundamental principles of preparing TiO2 thin films by magnetron sputtering was introduced,and the recent research progress about the effects of the sputtering power,working pressure,the argon/oxygen ratio,deposition temperature,annealing and doping on the structure,morphology and the optical properties of the TiO2 thin films were reviewed.In addition,the development trend of the magnetron sputtering depositing TiO2 thin films was also discussed.
出处
《光谱实验室》
CAS
CSCD
2012年第2期765-769,共5页
Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory
基金
中央高校基本科研业务费专项基金资助(2010ZY50)
中国地质大学(北京)矿物岩石材料开发应用国家专业实验室开放课题(09A004)
关键词
二氧化钛薄膜
工艺参数
结构
形貌
光学性能
TiO2 Thin Films
Technological Parameters
Structure
Morphology
Optical Properties
