摘要
概述了近年来国内外对铌酸锂(LN)晶体干法刻蚀技术的研究进展。根据刻蚀原理和特点,现有的LN干法刻蚀技术可分为等离子体刻蚀、激光微加工技术和Ti扩散电化学刻蚀。对各刻蚀方法及其研究进展进行了总结,分析了不同干法刻蚀方法之间的区别和联系,并对各方法中存在的问题进行了探讨。其中等离子体刻蚀技术由于其良好的图形转移特性,得到了最广泛的应用;激光微加工技术在制备光子晶体结构和微光栅结构中具有独特的优势;Ti扩散电化学刻蚀LN为制备大尺寸的LN基结构指明了新的方向。
The dry etching technology for lithium niobate （LN） crystal is reviewed. According to the etching mechanism and characteristics, the existing LN dry etching methods can be classified as the plasma etching, laser micromachining technique and Ti diffusion electrochemical etching. The etching methods and research progress are summarized. The difference and relationship of the different etching methods are analyzed, and the problems of the etching methods are dis- cussed. The plasma etching technology is most widely used because of its excellent pattern trans- fer characteristics. The laser micromachining technique has the unique advantages in the preparation of the photonie crystal structure and micro-grating structure. The Ti diffusion electrochemi- cal etching indicates a new development direction for the fabrication of large scale pattern on LN.
出处
《微纳电子技术》
CAS
北大核心
2012年第3期197-207,共11页
Micronanoelectronic Technology
基金
国家自然科学基金资助项目(61078039)
中国科学院"百人计划"择优支持资助项目
关键词
集成光学
光学器件
铌酸锂
干法刻蚀
反应离子刻蚀
integrated optics
optical devices
lithium niobate （LN）
dry etching
reactive ionetching
