摘要
从标量衍射理论出发，首先从理论上计算出多台阶二元光学元件发生深度误差时衍射效率的解析式；然后以4台阶和8台阶闪耀光栅为例，对二元光学元件套刻制作中的主要误差及其这些误差之间的相互影响进行了系统的分析和计算机模拟研究，模拟结果给实际制作提供了重要理论指导和实验参数。
In this paper, the analytic expression of diffraction efficiency corresponding to the mask etch-depth errors is deduced from the scale diffraction theory. Choosing 4-step and 8-step blazed grating as an example, we simulated systematically main registeringetch errors and their interactions of binary optical element using computer. The results of computer simulation agree well with that of the analytic method. It can provide theoretical basis and experiment parameter for practical fabrication.
出处
《光学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1996年第6期833-838,共6页
Acta Optica Sinica
基金
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室资助
国家自然科学基金
国家教委博士点基金
关键词
二元
光学元件
误差分析
闪耀光栅
binary optical element, error analysis, computer simulation, depth error, alignment error, blazed grating
