新型多元对靶溅射沉积装置
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1么忆权.基于并口通信的多晶薄膜沉积装置[J].微计算机信息,2010,26(23):166-168.
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2易贵华,尹洪禹.沉积ZnO膜的MOCVD装置的研制[J].真空,2001,38(6):23-25. 被引量：1
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3李绮,张仲麟,王大庸.ECR微波等离子体溅射沉积氮化铝的研究[J].真空,1991(2):36-41. 被引量：1
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4关奎之,张世伟,慈连鳌,康虹.JGP-600型磁控溅射薄膜沉积装置的研制[J].真空,1997(1):30-33. 被引量：1
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5万军,马志斌.液相电沉积金刚石薄膜的研究进展[J].材料导报,2004,18(2):23-25.
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6杨英惠（摘译）.南韩向Veeco订购生产太阳电池设备[J].现代材料动态,2009(8):16-16.
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7汪建华,袁润章,邬钦崇,任兆杏.微波ECR等离子体高速溅射装置的研制[J].华中理工大学学报,1999,27(2):70-72.
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8雷智,冯良桓,张静全,蔡亚平,蔡伟,郑家贵,李卫,武莉莉,黎兵,夏庚培,鄢强.低温制备透明SnO_2:F薄膜的光电性研究[J].光电子技术,2004,24(1):4-7. 被引量：3
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9雷智,冯良桓,张静全,蔡亚平,蔡伟,郑家贵,李卫,武莉莉,黎兵,蔡道林,夏庚培,鄢强.低温制备透明导电膜SnO2：F及其结构和性质研究[J].高技术通讯,2004,14(1):52-55. 被引量：2
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10赵文锋,杨洲,王卫星,吴伟斌,肖诺骏.基于 CFDRC 的感应耦合等离子体离子数密度空间分布仿真[J].高电压技术,2014,40(1):206-211. 被引量：4
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