大功率AlGaAs—GaAs激光器干涉镜和减反射膜的制备

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摘要分别用磁控溅射和电子束蒸发技术，在大功率ＡｌＧａＡ３－ＧａＡ３激光器条端面上，制作了ＳｉＯ２／Ｓｉ干涉镜和Ａｌ２Ｏ３减反射膜。讨论了Ｓｉ靶反应磁控溅射下，氧化硅层的沉积速率和影响镀层质量的因素。

作者罗江财王静波

机构地区重庆光电技术研究所

出处《四川真空》 1999年第1期34-37,共4页

关键词大功率激光器干涉镜减反射镜膜铝镓砷

参考文献1

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四川真空

1999年第1期

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