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电容器铝箔交流腐蚀过程中腐蚀膜形成条件分析 被引量:5

Analysis of the formation conditions for etching Al film of electrolytic capacitors
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摘要 交流电解腐蚀扩面技术是低压铝电解电容器小型化的关键。分析了电极铝箔在盐酸溶液中交流负半周液相传质过程及交流电频率对电极表面几何结构的影响,结果表明,如果本体盐酸浓度c0,外加阴极电流密度iappl和交流电的频率f满足:{c0}mol·L-1/{iappl}A·cm-2≤587{f}Hz·({f}Hz+10.4)-2,则Al3+就可能沉淀形成腐蚀膜。控制盐酸浓度,阴极电流密度和交流电频率可改善腐蚀膜品质。 The conditions of etch film produced in the negative half cycle of AC electroetching of Al capacitor in HCl solution is analyzed by taking into account diffusion and electrical migration of H + in the electrolyte, as well as the variations of electrode morphology with electroetching frequency The results indicte that it is possible for Al 3+ to be precipitated if bulk HCl concentration( C 0), cathodic current density( i appl ) and the etching frequency( f ) cansatisfy the relation: C 0 i oppl ≤587 f ( f +10 4) 2
出处 《电子元件与材料》 CAS CSCD 1999年第2期8-10,共3页 Electronic Components And Materials
关键词 铝箔 交流腐蚀 铝电解电容器 Al foil, AC etching, etched film
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参考文献3

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