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离子注入制备量子光电材料的研究 被引量:2

Study of Quantum Optoelectronic Material Prepared by Ion Implantation
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摘要 对由量子限域效应引起的硅纳米晶粒的强烈光致发光现象、离子注入技术制备量子光电材料及其在光电子器件应用领域的优势和前景作了评述和探讨. The strong photoluminescence (PL) of Si nanocrystals origined from the quantum confined effect, the preparation of quantum optoelectronic material by ion implantation as well as the advantages if its application to optoelectronic devices are reviewed and discussed.
出处 《原子核物理评论》 CAS CSCD 1998年第3期166-169,共4页 Nuclear Physics Review
基金 中国科学院重点项目基金
关键词 离子注入 硅纳米晶粒 量子点材料 光电材料 ion implantation Si nanocrystals quantum dot film
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献3

  • 1廖良生,Appl Phys Lett,1995年,66卷,2382页
  • 2党冀萍,半导体情报,1995年,32卷,1页
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共引文献6

同被引文献49

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引证文献2

二级引证文献4

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