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光刻机主基板的动态特性分析及优化 被引量:5

Dynamics Analysis of the Main-plate of Stepping-scanning Lithography and Optimization
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摘要 利用有限元分析理论和模态分析理论,分析了高分辨光刻机主基板的动态特性,分析结果表明主基板结构设计合理。结合模态试验,验证了主基板有限元模型的正确性。利用该有限元模型,进行了灵敏度分析,还进一步实现了主基板结构的优化设计。 The main--plate of the high--resolution stepping--scanning lithography was studied. Using the finite element analysis theory and modal analysis theory, dynamic characteristics of the main--plate were analyzed, and it proves the structural design is reasonable. Using modal test, the finite element model was validated. Using the finite element model, we carried out sensitive analysis, and implemented the optimization design.
出处 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第21期2524-2527,共4页 China Mechanical Engineering
基金 国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716206) 国家自然科学基金资助项目(50605025)
关键词 主基板 有限元分析 模态试验 优化设计 main--plate finite element analysis modal test optimization design
  • 相关文献

参考文献6

二级参考文献12

  • 1林尤文.我国电除尘技术水平及电除尘发展中的问题和研究方向[J].中国环保产业,1995(4):18-19. 被引量:9
  • 2张兴 黄如 刘小彦.微电子学概论[M].北京:北京大学出版社,2002.17-218.
  • 3吴敏镜.惯性器件制造技术[M].北京:宇航出版社,1991..
  • 4Patrick Naulleau,Kenneth A Goldberg,Erik H Anderson,et al. Sub 70nm extreme ultraviolet lithography at the Advanced Light Source static microfield exposure station using the engineering test stand set -2[J]. J Vac Sci Technol,2002,B 20(6) :2829 - 2832.
  • 5Takaharu Miura. Electron projection lithography too development status[J]. J Vac Sci Technol, 2002, B 20(6) :2622 - 2633.
  • 6Takeshi Yamaguchi. Stepper Tool Evolution 4^th International Workshop on High Throughput Charged Particle Lithography[Z]. Hawaii,2000.0-3.
  • 7Dennis D Buss. Technolcgy in the Internet Era[A]. Proceedings of SPIE- Optical Mierolithography XIV[C]. Santa Clare: SPIE, 2001,4346: xxi-xxxi.
  • 8Seok-Kyun kim, Jong-Gyun Hong, Joo-On Park, et al. Feasibility Study of Printing Sub 100nm with ArF Lithography[A]. Proceedings of SPIE-Optical Microlithography XIV[C]. Santa Clare: SPIE, 2001,4346:214 - 221.
  • 9Anthony Yen, Shinn-Sheng Yu,Jen-Hong Chen,et al. Low Kl optical lithography for 100nm logic technologyand beyond[J]. J Vac Sci Technol,2001,B 19(6):2329-2334.
  • 10G Vandenberghe, Y-C Kim, C Delvaux,et al. ArF lithography options for 100nm technologies[A]. Proceedings of SPIE-Optical Microlithography XIV[C]. Santa Clare:SPIE,2001,4346:214- 221.

共引文献39

同被引文献36

引证文献5

二级引证文献19

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